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EQC2021-006944-P

Financiado

Sistema de litografía por haz de electrones con resolución inferior a 10 nm y ca...

Sistema de litografía por haz de electrones con resolución inferior a 10 nm y capacidad de escritura continua para patrones tanto alargados como periódicos Se propone la adquisición, instalación y puesta en marcha de un equipo de litografía por haz de electrones (EBL) dentro del servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) del Instituto de Micro y Nanotecnología (IMN-CNM) del CSIC de ú... ver más

01/01/2021

CSIC

861K€

Presupuesto del proyecto: 861K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

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Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2021-01-01

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CSIC

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA...

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 861K€

Descripción del proyecto Se propone la adquisición, instalación y puesta en marcha de un equipo de litografía por haz de electrones (EBL) dentro del servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) del Instituto de Micro y Nanotecnología (IMN-CNM) del CSIC de última generación, que sustituirá al EBL existente, anticuado y degradado. El sistema tendrá resolución inferior a 10nm y posicionamiento de la muestra de muy alta precisión (1nm). Además, incorpora la capacidad de escritura en áreas grandes sin errores de solapamiento entre distintos campos de escritura gracias al módulo electrónico adicional que sincroniza el movimiento del haz de electrones y la platina del microscopio permitiendo realizar patrones continuos y/o periódicos. Versátil, con precámara para carga rápida y la posibilidad de extender sus funcionalidades en el futuro mediante la instalación de nuevos elementos de nanofabricación y nanocaracterización (nanomanipuladores o inyectores de gases).Con el nuevo EBL, MiNa (certificado de calidad ISO9001:2015) ofrecerá servicio a la comunidad científica e innovadora, nacional e internacional, para los grupos investigadores en nanotecnología, incluyendo los grupos del IMN-CNM y de los institutos CSIC del Campus de Excelencia UAM+CSIC y en la Comunidad de Madrid, así como de los grupos de la UAM.Las tecnologías de nanofabricación, y de EBL en particular, tienen aplicación en campos que abarcan la nanotecnología, agrupados en energía, salud y tecnologías de la información y las comunicaciones.

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