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EQC2021-007544-P

Financiado

Nanolitografía de ultra alta resolución por haz de electrones y depósito de capa...

Nanolitografía de ultra alta resolución por haz de electrones y depósito de capas finas por haz de electrones y bombardeo de iones Mediante esta actuación se pretende satisfacer la necesidad detectada en el Servicio de Nanofabricación de disponer de un equipamiento de altas prestaciones que permita el desarrollo de procesos y dispositivos en la nanoescala en... ver más

01/01/2021

FUNDACIO INSTITUT...

1K€

Presupuesto del proyecto: 1K€

Líder del proyecto

FUNDACIO INSTITUT CATALA DE NANOCIENCIA I NAN... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5 | 25M€

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2021-01-01

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Participantes

FUNDACIO INSTITUT CATALA DE...

Lider

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Líder del proyecto

FUNDACIO INSTITUT CATALA DE NANOCIENCIA I NAN...

TRL 4-5 | 25M€

Presupuesto del proyecto 1K€

Descripción del proyecto Mediante esta actuación se pretende satisfacer la necesidad detectada en el Servicio de Nanofabricación de disponer de un equipamiento de altas prestaciones que permita el desarrollo de procesos y dispositivos en la nanoescala en sustratos de hasta 6 de diámetro. Este proyecto se requiere para el desarrollo y la mejora de las líneas de investigación con una alta aplicación tecnológica como son por ejemplo la bioelectrónica y la biomedicina, las nanoestructuras fotónicas y fonónicas o los nanodispositivos basados en materiales 2D. Se contempla como principal actuación la instalación de un equipo de nanolitografía por haz de electrones de ultra alta resolución (sub-8nm), dotado de un porta muestras con posicionamiento controlado por interferómetro laser, con electrónica y software dedicado para la escritura de patrones periódicos o en grandes áreas sin error de costura. Este equipo contará con un módulo de inyección de gases para la creación de nano-pistas de platino mediante la técnica conocida como deposición inducida por haz de electrones (EBID) y permitirá también la instalación de nano-manipuladores para realizar diferentes tipos de medidas in situ. Para completar los procesos de nanofabricación se contempla también la instalación de un equipo de depósito de capas finas que permita realizar de manera totalmente automatizada la evaporación de materiales mediante las técnicas de evaporación por haz de electrones y bombardeo de iones en una misma cámara de proceso

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