TRANSFERENCIA DE CONOCIMIENTO DEL CRECIMIENTO DE PUNTAS MAGNETICAS MEDIANTE FEBI...
TRANSFERENCIA DE CONOCIMIENTO DEL CRECIMIENTO DE PUNTAS MAGNETICAS MEDIANTE FEBID Y DE LA TECNICA CRYO-FIBID A EMPRESAS DE NANOTECNOLOGIA
LOS EXTRAORDINARIOS AVANCES EN NANOTECNOLOGIA QUE HEMOS PRESENCIADO EN LAS PRIMERAS DECADAS DEL SIGLO XXI HAN CAUSADO UN PROFUNDO IMPACTO EN LA TECNOLOGIA ACTUAL. LA MAYORIA DE ESTOS PROGRESOS SE HAN BASADO EN NUESTRA CRECIENTE CA...
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Descripción del proyecto
LOS EXTRAORDINARIOS AVANCES EN NANOTECNOLOGIA QUE HEMOS PRESENCIADO EN LAS PRIMERAS DECADAS DEL SIGLO XXI HAN CAUSADO UN PROFUNDO IMPACTO EN LA TECNOLOGIA ACTUAL. LA MAYORIA DE ESTOS PROGRESOS SE HAN BASADO EN NUESTRA CRECIENTE CAPACIDAD PARA SONDEAR Y MANIPULAR LA MATERIA A ESCALA ATOMICA, UN DESAFIO EN EL QUE LOS MODERNOS MICROSCOPIOS DE ELECTRONES E IONES HAN SIDO CLAVES PARA DICHO EXITO. UN EJEMPLO PARADIGMATICO HA SIDO LA INVENCION DE INSTRUMENTOS BASADOS EN LA COMBINACION UN HAZ DE IONES ENFOCADO Y UN MICROSCOPIO ELECTRONICO DE BARRIDO (FIB-SEM), QUE ACTUALMENTE SE EMPLEAN EN NUMEROSOS PROCESOS DE NANOTECNOLOGIA. UNO DE ELLOS ES EL DESARROLLO DE PROCEDIMIENTOS DE NANOLITOGRAFIA ADITIVA TALES COMO LA DEPOSICION INDUCIDA POR HACES DE IONES O ELECTRONES ENFOCADOS (FEBID / FIBID) MEDIANTE LA DESCOMPOSICION DE LAS MOLECULAS DE UN PRECURSOR DE GAS EN LAS PROXIMIDADES DE UN SUSTRATO.EL OBJETIVO GENERAL DE LA PROPUESTA DE PRUEBAS DE CONCEPTO TRANSBID ES LA VALORIZACION Y TRANSFERENCIA DE CONOCIMIENTO DE 2 APLICACIONES NANOTECNOLOGICAS DEL FEBID Y EL FIBID DESCUBIERTAS EN EL MARCO DEL PROYECTO COORDINADO MAT2017-82970-C2-R DEL PLAN NACIONAL DE I+D, AMBAS PROTEGIDAS POR SENDAS PATENTES:1) EL DESARROLLO DE PUNTAS MAGNETICAS FEBID PARA PALANCAS DE MICROSCOPIA DE FUERZA MAGNETICA (MFM).2) EL DESARROLLO DE LA TECNOLOGIA DE CRYO-FIBID PARA PROCESOS DE NANOLITOGRAFIA ADITIVA ULTRARRAPIDA.ESTOS CONCEPTOS REQUIEREN DE UN MAYOR DESARROLLO TECNOLOGICO QUE PERMITA LA TRANSFERENCIA DE LOS CONOCIMIENTOS CIENTIFICO-TECNICOS EXISTENTES A UNA TECNOLOGIA COMERCIALMENTE VIABLE:EN EL PRIMER CONCEPTO, YA SE HA DEMOSTRADO EL BUEN RENDIMIENTO DE LAS PUNTAS MFM FUNCIONALIZADAS CON DEPOSITOS FEBID MAGNETICOS (POCO INVASIVAS, ALTA RESOLUCION LATERAL, COMPATIBILIDAD CON MEDIOS LIQUIDOS). ESTA PROPUESTA PROPONE EVALUAR Y MEJORAR LA ROBUSTEZ Y LA VIDA UTIL DE DICHAS PUNTAS FEBID MAGNETICAS PARA QUE RESULTEN ECONOMICAMENTE RENTABLES PARA LOS USUARIOS FINALES. TAMBIEN SE BUSCA ADAPTAR EL CRECIMIENTO DE LOS DEPOSITOS MAGNETICOS FEBID A UNA AMPLIA GAMA DE ESPECIFICACIONES (RESOLUCION ESPACIAL, SENSIBILIDAD, INTENSIDAD DE INTERACCION) MEDIANTE EL AJUSTE CONTROLADO DE LAS DIMENSIONES Y EL CAMPO MAGNETICO DE FUGA DE LAS PUNTAS.EN EL SEGUNDO CONCEPTO, EL CRYO-FIBID HA DEMOSTRADO SER UNA TECNOLOGIA VIABLE PARA EL CRECIMIENTO ULTRARRAPIDO DE NANOESTRUCTURAS CON BAJA DOSIS DE IONES Y MINIMO DAÑO, MEDIANTE LA IRRADIACION DE UNA CAPA DE MOLECULAS PRECURSORAS, CONDENSADA A BAJA TEMPERATURA (-100ºC), QUE REQUIERE UNA COSTOSA UNIDAD CRIOGENICA BASADA EN NITROGENO LIQUIDO. TRANSBID PLANEA ANALIZAR LA APLICACION DEL CRYO-FIBID A UN SISTEMA CRIOGENICO MUCHO MAS ASEQUIBLE, UNA PLACA TERMOELECTRICA QUE OPERA HASTA -60ºC, PARA DETERMINAR SU DESEMPEÑO CON PRECURSORES SELECCIONADOS, LA RESOLUCION ESPACIAL MAXIMA ALCANZABLE Y LA COMPATIBILIDAD DEL PROCESO CON MATERIALES COMUNES EN LA INDUSTRIA DE SEMICONDUCTORES.TRANSBID PRETENDE CUBRIR LA BRECHA ENTRE LA VALIDACION EXITOSA EN EL LABORATORIO DE ESTAS TECNOLOGIAS (TRL-4), Y LA DEMOSTRACION DE PROTOTIPOS EN UN ENTORNO VERDADERAMENTE OPERATIVO (TRL-7), COMO PASO PREVIO A LA TRANSFERENCIA Y COMERCIALIZACION DE LAS MISMAS. POR ELLO, ESTOS DESARROLLOS TECNOLOGICOS SE REALIZARAN EN ESTRECHA COLABORACION CON VARIOS SOCIOS INDUSTRIALES QUE HAN MOSTRADO GRAN INTERES, Y QUE SE ENCARGARAN DE PONER A PRUEBA Y VALIDAR ESTAS TECNOLOGIAS PARA DEFINIR SU POTENCIAL DE VALORIZACION EN PRODUCTOS COMERCIALMENTE VIABLES. ANOLITOGRAFIA\INDUSTRIA DE SEMICONDUCTORES\REPARACION DE MASCARAS\EDICION DE CIRCUITOS\CONDICIONES CRIOGENICAS\MICROSCOPIA DE FUERZA MAGNETICA (MFM)\DEPOSICION INDUCIDA POR HACES DE IONES F\DEPOSICION INDUCIDA POR HACES DE ELECTRO
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