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EUIN2017-85957

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CAMPOS ELECTRICOS PARA MEJORAR LA IMAGEN EN MICROSCOPIA ELECTRONICA E IONICA DE...

CAMPOS ELECTRICOS PARA MEJORAR LA IMAGEN EN MICROSCOPIA ELECTRONICA E IONICA DE BARRIDO Y EL CRECIMIENTO DE NANOMATERIALES MEDIANTE HACES DE ELECTRONES E IONES FOCALIZADOS EL USO DE HACES FOCALIZADOS DE ELECTRONES Y DE IONES ES HOY EN DIA UNA HERRAMIENTA BASICA EN NANOTECNOLOGIA, APLICANDOSE EN MICROSCOPIOS DE BARRIDO AVANZADOS (SEM, FIB), CON RESOLUCION EN IMAGEN MEJOR DE 1 NM, Y EN EL CRECIMIENTO... ver más

01/01/2017

CSIC

9K€

Presupuesto del proyecto: 9K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2017-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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CSIC

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 9K€

Descripción del proyecto EL USO DE HACES FOCALIZADOS DE ELECTRONES Y DE IONES ES HOY EN DIA UNA HERRAMIENTA BASICA EN NANOTECNOLOGIA, APLICANDOSE EN MICROSCOPIOS DE BARRIDO AVANZADOS (SEM, FIB), CON RESOLUCION EN IMAGEN MEJOR DE 1 NM, Y EN EL CRECIMIENTO DE NANOMATERIALES CON FUNCIONALIDADES CONDUCTORAS, AISLANTES, MAGNETICAS Y SUPERCONDUCTORAS MEDIANTE LAS TECNICAS DE DEPOSICION INDUCIDA POR HACES DE ELECTRONES (FEBID) Y DE IONES (FIBID), EN AMBOS CASOS, TANTO EN IMAGEN COMO EN CRECIMIENTO, EXISTEN LIMITACIONES QUE PRETENDEMOS ABORDAR MEDIANTE LA APLICACION DE CAMPOS ELECTRICOS SOBRE LA MUESTRA, ESTOS CAMPOS ELECTRICOS SE DISEÑARAN PARA ACTUAR DE MODO EFICIENTE SOBRE LOS ELECTRONES SECUNDARIOS, QUE SON LOS RESPONSABLES DE VARIOS MODOS DE IMAGEN EN MICROSCOPIA SEM Y FIB Y DE LA DISOCIACION DE LAS MOLECULAS PRECURSORAS QUE DAN LUGAR AL CRECIMIENTO MEDIANTE FEBID Y FIBID, EN EL CASO DE QUE EL PROYECTO SEA EXITOSO, LOS RESULTADOS SERAN DE ALTO IMPACTO PARA APLICACIONES TALES COMO LA IMAGEN SEM Y FIB DE MATERIALES MONOCAPA Y MATERIALES AISLANTES Y EL CRECIMIENTO DE ALTA RESOLUCION DE NANOHILOS MAGNETICOS Y SUPERCONDUCTORES, MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA DE BARRIDO (SEM)\MICROSCOPÍA DE BARRIDO DE IONES (FIB)\DEPOSICIÓN INDUCIDA POR HAZ DE ELECTRONE\DEPOSICIÓN INDUCIDA POR HAZ DE IONES (FI\NANOHILOS MAGNÉTICOS\NANOHILOS SUPERCONDUCTORES\MATERIALES BIDIMENSIONALES\MONOCAPAS ORGÁNICAS

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