Innovating Works

UNSA13-3E-2691

Financiado
ICP PARA ATAQUE SECO DE NANOMATERIALES
El ataque seco (etching) permite la eliminación selectiva mediante una máscara para producir estructuras 2D o 3D en la fabricación de nanodispositivos, El ejemplo clásico son los pasos de etching usados en la fabricación de CMOS m... ver más
01/01/2013
USAL
582K€
Presupuesto del proyecto: 582K€
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Líder del proyecto
UNIVERSIDAD DE SALAMANCA
UNIVERSIDAD DE SALAMANCA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
Total investigadores 1151
Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.
Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2013-01-01 No tenemos la información de la convocatoria
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