Descripción del proyecto
EL OBJETIVO DE ESTE PROYECTO ES LA INVESTIGACION, EL DESARROLLO Y LA OPTIMIZACION DE METODOS PARA PRODUCIR MATERIALES MASIVOS DE GRANO ULTRAFINO (UFG) (<1000 NM) O NANOESTRUCTURADOS (<100 NM) CON UNA FUERTE TEXTURA CRISTALOGRAFICA Y PROPIEDADES TERMOELECTRICAS MEJORADAS,PARA MEJORAR LA FIGURA DE MERITO, ZT, DE UN MATERIAL TERMOELECTRICO ANISOTROPO (NO CUBICO), SE CONSIDERAN, GENERALMENTE, DOS ESTRATEGIAS: 1) EL CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES EN UNA DETERMINADA DIRECCION CRISTALOGRAFICA CON EL FIN DE MAXIMIZAR LA EFICIENCIA EN LA DIRECCION DESEADA; 2) GENERAR ESTRUCTURAS DE SUBMICROMETRICAS PARA REDUCIR EL COMPONENTE DE RED DE LA CONDUCTIVIDAD TERMICA A TRAVES DE DISPERSION DE FONONES,PARA EL PRIMER CASO, SE CONSIDERAN TECNICAS DE CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES QUE ESTAN ASOCIADAS NORMALMENTE A BAJAS VELOCIDADES DE CRECIMIENTO Y POBRES PROPIEDADES MECANICAS, EN EL SEGUNDO CASO, LA RUTA CONVENCIONAL COMBINA MOLIENDA DE ALTA ENERGIA PARA GENERAR EL POLVO NANOESTRUCTURADO DE PARTIDA (QUE PUEDE INCORPORAR LA CONTAMINACION DE LAS BOLAS DE MOLIENDA) Y PROCESOS DE SINTERIZACION, TALES COMO PRENSADO EN CALIENTE (HP) O SINTERIZACION DE PLASMA (SPS) QUE POR LO GENERAL CONDUCEN A UNA ESTRUCTURA ULTRAFINA O MICROCRISTALINA (DEBIDO AL CRECIMIENTO DEL GRANO QUE PUEDE OCURRIR DURANTE LA SINTERIZACION) CON UNA DEBIL TEXTURA CRISTALOGRAFICA,ACTUALMENTE NO EXISTE UNA TECNICA FIABLE Y MADURA PARA PRODUCIR MATERIALES MASIVOS DE GRANO ULTRAFINO QUE PERMITA, A SU VEZ, IMPONER UNA FUERTE TEXTURA CRISTALOGRAFICA,EL CONSORCIO TRATARA DE DISEÑAR NUEVAS RUTAS DE PROCESAMIENTO COMBINADOS QUE PERMITEN LA FABRICACION SIMULTANEA DE MATERIALES TERMOELECTRICOS MASIVOS NANOESTRUCTURADOS CON UNA FUERTE TEXTURA CRISTALOGRAFICA PARA MEJORAR MAS ALLA DEL ESTADO DE LA TECNICA, LA FIGURA DE MERITO DE DOS FAMILIAS SELECCIONADAS DE TERMOELECTRICAS : 1) MATERIALES Y MATERIALES COMPUESTOS PARA APLICACIONES DE BAJA TEMPERATURA DE BASE BI2TE3 Y 2) OXIDOS TERMOELECTRICOS PARA APLICACIONES DE ALTA TEMPERATURA,PARA APLICACIONES DE BAJA TEMPERATURA, IREC DESARROLLARA PROTOCOLOS DE SINTESIS PARA PRODUCIR NANOCRISTALES CON LA COMPOSICION Y TAMAÑO CONTROLADO; POR SU PARTE, CEIT-IK4 DESARROLLARA Y OPTIMIZARA UN PROCEDIMIENTO DE TORSION BAJO ALTA PRESION (HPT) PARA CONSOLIDAR Y TEXTURIZAR LOS NANOCRISTALES OBTENIDOS MEDIANTE DEFORMACION PLASTICA SEVERA A ALTAS PRESIONES HIDROSTATICAS (HASTA 5 GPA) Y BAJA TEMPERATURA, ESTA RUTA DE CONSOLIDACION SERA COMPARADO CON OTRAS TECNICAS CONVENCIONALES COMO PRENSADO EN CALIENTE (HP),PARA APLICACIONES DE ALTA TEMPERATURA , ICMA/UZ DISEÑARA Y SINTETIZARA OXIDOS TERMOELECTRICOS DE ALTA EFICIENCIA A TRAVES DE DIFERENTES VIAS (SOL-GEL, ALEACION MECANICA,,,) Y SE APLICARAN METODOS DE TEXTURIZADO LASER PARA CONSOLIDAR Y TEXTURIZAR ESTOS MATERIALES INTRINSECAMENTE NANOESTRUCTURADOS; CEIT-IK4 TAMBIEN EXPLORARA RUTAS DE TORSION DE ALTA PRESION COMO VIA ALTERNATIVA DE CONSOLIDACION, PARA ELLO, ADAPTARA EL DISPOSITIVO HPT ACTUAL PARA TRABAJAR EN UN REGIMEN DE MAYOR TEMPERATURA (<400ºC),LOS MATERIALES OBTENIDOS SE EVALUARAN A TRAVES DE SU ZT Y SUS PROPIEDADES MECANICAS, UNA MEJORA EN LA FIGURA DE MERITO PERMITIRA EXTENDER EL USO DE ESTOS MATERIALES EN SECTORES COMO LA AUTOMOCION (EN LA MEJORA DE LAS PROPIEDADES MECANICAS SERA, TAMBIEN, FUNDAMENTAL) Y LA ENERGIA SOLAR TERMOELECTRICA, EN SINTONIA CON LA ESTRATEGIA DE CYTYI 2013-2020 Y EL SET-PLAN EUROPEO,UN DEMOSTRADOR SERA ENSAMBLADO Y CARACTERIZADO EN CONDICIONES DE TRABAJO, MATERIALES TERMOELÉCTRICOS\ MATERIALES NANOESTRUCTURADOS\ TEXTURA CRISTALOGRÁFICA\ DEFORMACIÓN PLÁSTICA SEVERA\ SÍNTESIS COLOIDAL\ TEXTURIZADO LASER