Sistema de deposición por pulverización catódica de capas finas metálicas y estr...
Sistema de deposición por pulverización catódica de capas finas metálicas y estructuras multicapa de muy alta uniformidad
En la presente solicitud, se pretende adquirir un sistema de deposición catódica (sputtering) con tres magnetrones, para la deposición de una amplia gama de metales (incluyendo metales magnéticos) y estructuras multicapa con prop...
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Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2010-01-01
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Descripción del proyecto
En la presente solicitud, se pretende adquirir un sistema de deposición catódica (sputtering) con tres magnetrones, para la deposición de una amplia gama de metales (incluyendo metales magnéticos) y estructuras multicapa con propiedades físicas uniformes y altamente reproducibles (espesor, resistencia eléctrica, conductividad térmica, reflectividad, etc,), Estas capas y estructuras metálicas son un elemento clave en el desarrollo de los procesos tecnológicos de los diferentes dispositivos que actualmente están en desarrollo en IREC, ya que representan en la gran mayoría de los casos la primera etapa de dichos procesos, y cualquier variación en sus propiedades influye notablemente en las etapas posteriores, En particular la infraestructura solicitada será utilizada para desarrollar entre otros: contactos traseros metálicos depositados sobre diferentes sustratos para celdas solares de segunda y tercera generación; deposición de capas metálicas como precursores para la formación de absorbedores en celdas solares de capa fina; obtención de electrodos para procesos electroquímicos, de catálisis y de fotocatálisis; catalizadores para celdas de combustible; contactos eléctricos para el desarrollo de dispositivos termovoltaicos; etc,), En la propuesta participan 8 grupos de investigación, que incluyen 5 laboratorios del instituto IREC, 2 grupos de la Universidad de Barcelona y un grupo del Centro Nacional de Microelectrónica