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FPID10-4E-1324

Financiado
Sistema de deposición por pulverización catódica de capas finas metálicas y estr...
Sistema de deposición por pulverización catódica de capas finas metálicas y estructuras multicapa de muy alta uniformidad En la presente solicitud, se pretende adquirir un sistema de deposición catódica (sputtering) con tres magnetrones, para la deposición de una amplia gama de metales (incluyendo metales magnéticos) y estructuras multicapa con prop... ver más
01/01/2010
FUNDACIÓ PRIVADA I...
150K€
Presupuesto del proyecto: 150K€
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Líder del proyecto
FUNDACIÓ PRIVADA INSTITUT DE RECERCA DE L'ENE... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
TRL 4-5 | 35M€
Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2010-01-01 No tenemos la información de la convocatoria
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