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MAT2008-06618-C02-02

Financiado

SINTESIS Y CARACTERIZACION DE OXIDOS MIXTOS POR SPUTTERING MAGNETRON REACTIVO

EL OBJETIVO FUNDAMENTAL DE ESTE PROYECTO ES EL CRECIMIENTO Y CARACTERIZACION DE CAPAS DE OXIDOS MIXTOS MEDIANTE LA TECNICA DE SPUTTERING MAGNETRON REACTIVO, LOS OXIDOS MIXTOS ESTARAN BASADOS EN METALES DE TRANSICION Y SI O AL,... ver más

01/01/2008

CSIC

85K€

Presupuesto del proyecto: 85K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2008-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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CSIC

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 85K€

Descripción del proyecto EL OBJETIVO FUNDAMENTAL DE ESTE PROYECTO ES EL CRECIMIENTO Y CARACTERIZACION DE CAPAS DE OXIDOS MIXTOS MEDIANTE LA TECNICA DE SPUTTERING MAGNETRON REACTIVO, LOS OXIDOS MIXTOS ESTARAN BASADOS EN METALES DE TRANSICION Y SI O AL, LOS METALES DE TRANSICION SERAN CR, HF Y TA, LAS CAPAS SE CRECERAN UTILIZANDO CATODOS COMPUESTOS (SPUTTERING MAGNETRON REACTIVO) Y CATODOS SIMPLES (CO-SPUTTERING MAGNETRON REACTIVO) DE FORMA QUE LA COMPOSICION DE LAS CAPAS SE CONTROLARA A PARTIR DE LA COMPOSICION DE LOS CATODOS COMPUESTOS, DE LA POTENCIA APLICADA A LOS CATODOS Y DE LA COMPOSICION DE LA MEZCLA GASEOSA REACTIVA, EL EFECTO DE LA ENERGIA DE LOS IONES DEL PLASMA SE ESTUDIARA MEDIANTE LA APLICACION DE UN VOLTAJE BIAS A LOS SUBSTRATOS Y MEDIANTE LA UTILIZACION DE UN CAÑON DE IONES EN LA CAMARA DE SPUTTERING QUE PROVOCARA LA INYECCION DE IONES ENERGETICOS EXTRA EN LA CAMARA DE REACCION Y CONSECUENTEMENTE VARIACIONES EN LA ENERGIA DE LOS IONES QUE PARTICIPAN EN LA FORMACION DE LOS OXIDOS MIXTOS, SE ESPERA QUE ESTE APORTE ADICIONAL DE ENERGIA DE LUGAR A CAMBIOS INTERESANTES EN LA CINETICA DE CRECIMIENTO DE LA CAPAS DE OXIDOS MIXTOS ASI COMO EN SUS PROPIEDADES,LA ESTEQUIOMETRIA DE ESTAS PELICULAS, SU ESTRUCTURA CRISTALINA, SU MICROESTRUCTURA Y LOS ENLACES PRESENTES EN LAS CAPAS SE RELACIONARAN CON LOS PARAMETROS DEL PROCESO DE DEPOSICION ANTES MENCIONADOS BUSCANDO AQUELLAS CONDICIONES DE DEPOSITO QUE NOS PERMITAN OBTENER RECUBRIMIENTOS CON BUENAS PROPIEDADES OPTICAS, DE ADHERENCIA Y RESISTENCIA A LA CORROSION A ALTAS TEMPERATURAS, magnetron spputtering\óxidos mixtos\desgaste\corrosión\propiedades ópticas

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