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CSIC10-3E-894

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Sistema de deposición mediante sputtering de películas delgadas

El equipo solicitado permite la deposición de capas delgadas (>5nm) de una gran variedad de materiales inorgánicos (aislantes, semiconductores y metales) mediante rf-sputtering y hace posible el crecimiento policristalino o epitax... ver más

01/01/2010

CSIC

144K€

Presupuesto del proyecto: 144K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2010-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 144K€

Descripción del proyecto El equipo solicitado permite la deposición de capas delgadas (>5nm) de una gran variedad de materiales inorgánicos (aislantes, semiconductores y metales) mediante rf-sputtering y hace posible el crecimiento policristalino o epitaxial de materiales con estequiometrias complejas sobre monocristales, De esta técnica resaltan el depósito a baja temperatura, la alta energía de llegada de los átomos, reproducibilidad, escalabilidad y la posibilidad de depositar materiales refractarios,Es posible destacar tres grupos de aplicaciones para este equipo en el ITQ: (i) fabricación de dispositivos para la conversión electroquímica de energía y productos químicos; dichos dispositivos incluyen pilas de combustible, electrolizadores, baterías, sensores de gases, etc, y requieren materiales cristalinos conductores iónicos y/o electrónicos, tales como SrTiO3, La2NiO4, La6WO12, YSZ, etc, (ii) desarrollo de dispositivos con propiedades optoelectrónicas tales como celdas solares orgánicas, dispositivos emisores de luz (LEDs), etc; ejemplos de materiales a depositar en capa delgada son conductores transparentes (ITO, AZO) y electrónicos (n/p) y (iii) preparación de películas delgadas modelo para estudios fundamentales de transporte iónico y/o electrónico, Consecuentemente, este equipo permitiría dar un salto cualitativo en líneas estratégicas del instituto, aumentando significativamente la calidad de la investigación así como los ámbitos y el potencial de aplicación de los hallazgos científicos,

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