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MAT2010-21228

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SINTESIS MEDIANTE PLASMA CVD DE NUEVOS MATERIALES ORGANICOS NANOESTRUCTURADOS IN...

SINTESIS MEDIANTE PLASMA CVD DE NUEVOS MATERIALES ORGANICOS NANOESTRUCTURADOS INTEGRADO EN DISPOSITIVOS PLANARES PARA APLICACIONES COMO SENSORES FOTONICOS Y DE MARCAJE DE SEGU EN NANOPLASMA SE PROPONE EL DESARROLLO DE NUEVAS TECNICAS BASADAS EN PLASMAS PARA LA SINTESIS Y PROCESADO DE NUEVOS MATERIALES FUNCIONALES ORGANICOS, LA TECNOLOGIA DE PLASMA PARA SINTESIS DE MATERIALES ACTUALMENTE EN USO, COMO EL... ver más

01/01/2010

CSIC

169K€

Presupuesto del proyecto: 169K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2010-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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CSIC

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 169K€

Descripción del proyecto EN NANOPLASMA SE PROPONE EL DESARROLLO DE NUEVAS TECNICAS BASADAS EN PLASMAS PARA LA SINTESIS Y PROCESADO DE NUEVOS MATERIALES FUNCIONALES ORGANICOS, LA TECNOLOGIA DE PLASMA PARA SINTESIS DE MATERIALES ACTUALMENTE EN USO, COMO EL CVD ACTIVADO POR PLASMA (PECVD) O LOS PROCESOS DE POLIMERIZACION POR PLASMA,IMPLICA SIEMPRE LA FRAGMENTACION COMPLETA DE UN PRECURSOR VOLATIL, EN CONTRASTE NANOPLASMA PERSIGUE LA SINTESIS DE UNA NUEVA FAMILIA DE MATERIALES LUMINISCENTES EN FORMA DE PELICULA DELGADA O NANOCABLES 1D SOPORTADOS, MEDIANTE EL CONTROL QUIMICO Y DEL PROCESO DE FRAGMENTACION EN LA ZONA REMOTA DE UNA DESCARGA DEPLASMA, LA INVESTIGACION SE CENTRARA EN LA SINTESIS DE MATRICES ORGANICAS CON MICROESTRUCTURA NANOMETRICA CONTROLADA QUE INCORPORAN MOLECULAS ORGANICAS LUMINISCENTES (POR EJEMPLO PERILENOS, RODAMINAS, FTALOCIANINAS Y PORFIRINAS) Y NANOCABLES ORGANICOS 1D A PARTIR DEL MISMO TIPO DE MOLECULAS,EL PROYECTO TAMBIEN CONTEMPLA EL DESARROLLO DE METODOLOGIAS BASADAS EN PROCESOS DE ETCHING POR PLASMA Y ABLACION LASER, PARA LA FABRICACION DE PATRONES LITOGRAFICOS 2D A PARTIR DE LAS LAMINAS DELGADAS Y LAS NANOESTRUCTURAS SOPORTADAS, LA INVESTIGACION SE CONTEMPLA CON ESTUDIOS BASICOS ENCAMINADOS AL DESARROLLO DEPROCESOS DE ¿PATTERNING QUIMICO¿ BASADOS EN PROCESOS DE FUNCIONALIZACION SUPERFICIAL MEDIANTE PLASMAS Y DE DERIVATIZACION QUIMICA DE MONOCAPAS AUTOENSAMBLADAS, TANTO LA METODOLOGIA SINTETICA MEDIANTE PLASMAS REMOTOS COMO LOS PROCESOS DE MICROSTRUCTURACION SON TOTALMENTE COMPATIBLES CON LA TECNOLOGIA OPTOELECTRONICAACTUAL Y LA TECNOLOGIA MICROELECTRONICA, AMBOS PROCESOS, POR TANTO, PUEDEN LLEVARSE A CABO A ESCALA DE OBLEA DE SILICIO (WAFER SCALE) Y ESCALARSE A PROCESOS DE FABRICACION INDUSTRIAL EFECTIVOS, ESTOS MATERIALES Y PROCESOS SE EMPLEARAN EN LA FABRICACION DE DOS TIPOS DE DISPOSITIVOS A ESCALA DE PROTOTIPO COMO SON: LOS SENSORES DE GASES FOTONICOS Y LAS MICROESTRUCTURAS LUMINISCENTES PARA APLICACIONES DE MARCADOINTELIGENTE, LOS SENSORES DE GASES CONSISTIRAN EN UNA LAMINA O ESTRUCTURA LUMINISCENTE INTEGRADA EN UN CRISTAL FOTONICO 1D DISEÑADOS DE ACUERDO A LAS PROPIEDADES OPTICAS Y LA LONGITUD DE ONDA DE LA EMISION LUMINISCENTE DELA CAPA SENSORA CORRESPONDIENTE, LOS DISPOSITIVOS DE MARCADO INTELIGENTE CONSISTIRAN EN PATRONES LITOGRAFICOS COMPLEJOS CONSTRUIDOS A PARTIR DE LAMINAS O MULTICAPAS LUMINISCENTES CON FUNCIONALIDADES ESPECIFICAS E, INCLUSO, RESPUESTA AMBIENTAL O SENSORA NO DESARROLLADA POR NINGUNA OTRA TECNOLOGIA HASTA LA FECHA,

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