MICRO Y NANOESTRUTURACION DE MATERIALES FOTONICOS INDUCIDA MEDIANTE IRRADIACION...
MICRO Y NANOESTRUTURACION DE MATERIALES FOTONICOS INDUCIDA MEDIANTE IRRADIACION IONICA Y LUZ LASER
EL OBJETIVO FUNDAMENTAL DE ESTE PROYECTO ES PROPORCIONAR LAS TECNICAS Y METODOS PARA CONSEGUIR UNA NANOESTRUCTURACION FLEXIBLE DEL MATERIAL FOTOVOLTAICO (LINBO3) MEDIANTE IRRADIACIONES CON IONES DE ALTA ENERGIA (DE MEV, "SWIFT ION...
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Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2011-01-01
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Fecha límite de participación
Sin fecha límite de participación.
Descripción del proyecto
EL OBJETIVO FUNDAMENTAL DE ESTE PROYECTO ES PROPORCIONAR LAS TECNICAS Y METODOS PARA CONSEGUIR UNA NANOESTRUCTURACION FLEXIBLE DEL MATERIAL FOTOVOLTAICO (LINBO3) MEDIANTE IRRADIACIONES CON IONES DE ALTA ENERGIA (DE MEV, "SWIFT IONS") ASI COMO CON IRRADIACIONES CON PULSOS LASER (NANOSEGUNDOS O INFERIOR). SE ESTUDIARA LA SINERGIA DEL DAÑO ELECTRONICO CAUSADO POR IRRADIACIONES CON IONES DE ALTA ENERGIA Y CON IRRADIACIONES LASER, COMBINADAS TANTO SIMULTANEAMENTE COMO DE MODO SECUENCIAL. COMO OBJETIVOS PARCIALES SE CONSIDERAN LOS SIGUIENTES:1. DESARROLLAR MODELOS BASADOS EN EL THERMAL SPIKE Y/O LA DESEXCITACION NO-RADIATIVA DE EXCITONES PARA DESCRIBIR EL EFECTO DE AMBOS TIPOS DE IRRADIACION, QUE PRESENTAN MECANISMOS DOMINANTES DE NATURALEZA ELECTRONICA. REALIZACION DE SIMULACIONES NUMERICAS DE LOS EFECTOS DEL DAÑO.2. FABRICACION DE ESTRUCTURAS MULTICAPAS LONGITUDINALES CON CAPACIDAD DE GUIADO DE LUZ MEDIANTE LOS PERFILES DE INDICE GENERADOS POR LA IRRADIACION. LA TECNICA, QUE PRODUCE GUIAS DE ONDA DE ALTO CONFINAMIENTO, ES ORIGINAL Y YA HA SIDO DEMOSTRADA.3. GENERACION DE PATRONES ESPACIALES A ESCALA NANOMETRICA DE ESTRUCTURAS AMORFAS/CRISTALINAS Y SU CONVERSION EN PATRONES DE RELIEVE SUPERFICIAL MEDIANTE ATAQUE QUIMICO Y ABLACION LASER. EN PARTICULAR, SE TRATARA DE OBTENER POROS (RELLENABLES), COLUMNAS, VALLES Y RIDGES. LA IRRADIACION IONICA DE ALTA ENERGIA PRESENTA VENTAJAS INIGUALABLES DE RESOLUCION TRANSVERSAL.4. EN RELACION CON 3) FABRICACION DE ESTRUCTURAS DE DOMINIOS FERROELECTRICOS DE TAMAÑO TRANSVERSAL SUBMICROMETRICO PARA CONTROL Y OPTIMIZACION DEL EFECTO FOTOVOLTAICO, MEDIANTE RECRISTALIZACION BAJO CAMPO DE LAS TRAZAS AMORFAS GENERADAS POR IRRADIACION IONICA.5. OBTENCION DE MICRO- Y NANO-CRISTALES FOTOVOLTAICOS MEDIANTE TECNICAS DE ABLACION LASER (CON EXTRACCION POSTERIOR) ASI COMO MEDIANTE AMORFIZACION MEDIANTE IRRADIACION IONICA Y POSTERIOR DISOLUCION Y FILTRADO. RRADIACION IONICA\NIOBATO DE LITIO\NANOTECNOLGIAS\NANOESTRUCTURAS\GUIAS OPTICAS\FOTONICA\IRRADIACION LASER