Descripción del proyecto
LA FINALIDAD DEL PROYECTO ES EL DESARROLLO DE UNA LINEA DE INVESTIGACION A LA VANGUARDIA INTERNACIONAL EN RECUBRIMIENTOS ANTI-MULTIPACTOR CON EMISION SECUNDARIA DE ELECTRONES ¿SUPRIMIDA¿ POR EL EFECTO DE RUGOSIDAD Y DE CAMPOS MAGNETICOS SUPERFICIALES, APLICANDO A ESTE CAMPO LOS DESARROLLOS ACTUALES DE LAS NANO-TECNOLOGIAS, LA DESCARGA MULTIPACTOR REPRESENTA UN GRAVE PROBLEMA QUE LIMITA LA POTENCIA EN INSTRUMENTACION DE RF DE ALTA POTENCIA EN MISIONES EN EL ESPACIO, COMO EN OBSERVACION DE LA TIERRA Y EN TELECOMUNICACION, PARTICULARMENTE EN SISTEMAS DE COMUNICACION MULTIMISION, ESTE PROBLEMA APARECE TAMBIEN EN ACELERADORES DE PARTICULAS, GENERADORES DE MICROONDAS, Y DISPOSITIVOS DE PLASMA TOROIDALES PARA LA FUSION NUCLEAR, DEBIDO A LA IMPORTANCIA TECNOLOGICA Y ECONOMICA DEL PROBLEMA, LA AGENCIA EUROPEA DEL ESPACIO (ESA), LA ORGANIZACION EUROPEA PARA LA INVESTIGACION NUCLEAR (CERN) Y OTROS PRESTIGIOSOS CENTROS DE INVESTIGACION EN EL MUNDO ESTAN DEDICANDO UN ENORME ESFUERZO DURANTE DECADAS A SU RESOLUCION, LAS INVESTIGACIONES REALIZADAS POR EL EQUIPO INVESTIGADOR EN COLABORACION CON ESA Y TESAT SPACECOM, ALEMANIA, PRESENTADAS EN LOS ULTIMOS CONGRESOS INTERNACIONALES DE ESTE CAMPO ESPECIFICO, MULCOPIM 2008, ESA, Y ECM 2008, CERN, MUESTRAN QUE ESTOS RECUBRIMIENTOS PODEN SER LA SOLUCION DEFINITIVA AL PROBLEMA DEL EFECTO MULTIPACTOR, Y HAN COLOCADO AL EQUIPO INVESTIGADOR EN LA VANGUARDIA EN ESTE CAMPO,SE ADOPTARA UNA TECNOLOGIA MULTICAPA PARA SATISFACER CONJUNTAMENTE LOS ESTRICTOS REQUERIMIENTOS DE UN RECUBRIMIENTO ANTI-MULTIPACTOR PARA EL ESPACIO, MINIMA EMISION SECUNDARIA, MAXIMA CONDUCTIVIDAD SUPERFICIAL A RF, ESTABILIDAD FRENTE A LA EXPOSICION AL AIRE, BUENA ADHERENCIA AL SUBSTRATO Y FACIL APLICACION A LA TECNOLOGIA ESPACIAL,SE DESARROLLARAN TECNICAS ESPECIALES DE PREPARACION ADAPTADAS A ESTA TECNOLOGIA, A PARTIR DEL DEPOSITO PULSADO EN UNA ATMOSFERA INERTE POR LASER, GRABADO QUIMICO Y ELECTROQUIMICO, DEPOSICION RAPIDA EN UNA ATMOSFERA INERTE POR EVAPORACION Y POR SPUTTERING, Y GRABADO POR SPUTTERING PREFERENCIAL ASISTIDO POR DEPOSICION DE MASCARA, SE DESARROLLARAN RECUBRIMIENTOS TODO METAL, METAL-DIELECTRICO Y CON CAPAS MAGNETICAS, LOS RECUBRIMIENTOS TENDRAN UNA FUERTE ¿RUGOSIDAD¿ A NIVEL MICROSCOPICO O SUBMICROSCOPICO PARA SUPRIMIR LA EMISION SECUNDARIA PERO SERAN MACROSCOPICAMENTE ¿LISOS¿ PARA NO AFECTAR AL CAMPO DE RF, SE APLICARAN TAMBIEN TECNICAS DE CIENCIA DE SUPERFICIES PARA ANALIZAR LOS PROCESOS DE PREPARACION Y LAS PROPIEDADES DE LOS RECUBRIMIENTOS, PRINCIPALMENTE LOS PROCESOS DE ¿ENVEJECIMIENTO¿ AL AIRE Y DE ¿ACONDICIONAMIENTO¿ POR IRRADIACION DE ELECTRONES, IONES O FOTONES, DE GRAN IMPORTANCIA TECNOLOGICA, ENTRE LAS TECNICAS DE ANALISIS SE UTILIZARAN SEY, EDC PARA LA EMISION SECUNDARIA; XPS, AES, REELS, EDX, XRD, RBS, Y UPS Y NEXAFS CON LUZ SINCROTON, PARA EL ANALISIS QUIMICO, ESTRUCTURAL Y ESTRUCTURA ELECTRONICA; Y MICROSCOPIAS SEM Y AFM, PARA EL ANALISIS DE LA RUGOSIDAD, LA DESCARGA MULTIPACTOR SE SIMULARA POR UN MODELO MICROSCOPICO Y PRECISO DE MONTECARLO PARA LA EMISION SECUNDARIA Y DONDE LOS ELECTRONES Y SUS TRAYECTORIAS EN EL CAMPO ELECTROMAGNETICO SON CONSIDERADOS INDIVIDUALMENTE, DESCARGA MULTIPACTOR\EMISION SECUNDARIA\RECUBRIMIENTO MAGNETICO NANOESTRUCTURADO\RUPTURA RF