Sistemas de litografía, grabado selectivo y deposición física de películas delga...
Sistemas de litografía, grabado selectivo y deposición física de películas delgadas para el laboratorio de grafeno y semiconductores bidimensionales.
El objetivo de la presente solicitud es la de dotar al Laboratorio de Grafeno y Semiconductores Bidimensionales de la Universidad de Granada de capacidad litográfica y de grabado selectivo (reactive ion etching) de capas finas y d...
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UNIVERSIDAD DE GRANADA
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Total investigadores5509
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2015-01-01
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UNIVERSIDAD DE GRANADA
No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
Total investigadores5509
Presupuesto del proyecto
419K€
Descripción del proyecto
El objetivo de la presente solicitud es la de dotar al Laboratorio de Grafeno y Semiconductores Bidimensionales de la Universidad de Granada de capacidad litográfica y de grabado selectivo (reactive ion etching) de capas finas y de deposición de películas delgadas por PVD (Physical Vapor Deposition) para poder fabricar dispositivos electrónicos sobre los sustratos monocapa de grafeno y materiales bidimensionales (dicalcogenuros de metales de transición) que ya se obtienen en el laboratorio de Granada, Este equipamiento va a permitir trabajar en las siguientes líneas:1, Estudios teóricos ab-initio de grafeno y materiales bidimensionales (calibrado mediante comparación con resultados experimentales)2, Caracterización estructural y eléctrica de grafeno y TMDs,3, Memorias semiconductoras basadas en heteroestructuras de Van der Waals,4, Desarrollo de sensores y biosensores basados en grafeno5, Displays electroforéticos flexibles (nueva línea de investigación)6, Celdas solares basadas en grafeno (nueva línea de investigación),