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FPID10-4E-1209

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Sistema de depósito químico en fase vapor para el crecimiento de nanohilos semic...

Sistema de depósito químico en fase vapor para el crecimiento de nanohilos semiconductores sobre sustratos tipo oblea El equipo solicitado es un sistema de depósito químico en fase vapor (en inglés, "Chemical Vapor Deposition", CVD) para el crecimiento de materiales semiconductores nanoestructurados (principalmente en forma de nanohilos) sobre su... ver más

01/01/2010

FUNDACIÓ PRIVADA I...

213K€

Presupuesto del proyecto: 213K€

Líder del proyecto

FUNDACIÓ PRIVADA INSTITUT DE RECERCA DE L'ENE... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5 | 35M€

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2010-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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FUNDACIÓ PRIVADA INSTITUT DE RECERCA DE L'ENE... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5 | 35M€

Presupuesto del proyecto 213K€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto El equipo solicitado es un sistema de depósito químico en fase vapor (en inglés, "Chemical Vapor Deposition", CVD) para el crecimiento de materiales semiconductores nanoestructurados (principalmente en forma de nanohilos) sobre sustrato tipo oblea de, al menos, cuatro pulgadas, Dichas nanoestructuras serán empleadas en dispositivos generadores de energía para aumentar su rendimiento y mejorar su integrabilidad en tecnología electrónica, e,g, generadores termoeléctricos y células solares, De entre las diferentes técnicas de crecimiento ordenado de nanohilos sobre substrato, el crecimiento mediante CVD y procesos VLS (Vapor-Líquido-Sólido) catalizados por metales, e,g, Au o Pt, está entre los más prometedores, Esto es debido a la posibilidad de incluir el proceso en cadenas de producción a gran escala (compatibilidad con tecnologías de microfabricación de la industria electrónica), su reducido coste y la gran reproducibilidad del producto (homogeneidad en el depósito), El equipo solicitado permite el crecimiento VLS de nanohilos sobre substratos de tamaño oblea de hasta 4 pulgadas de manera que se adecua a las necesidades de fabricación de dispositivos y prototipos impuestas por los proyectos mencionados en la memoria, De esta manera, los diferentes grupos del área de materiales del instituto IREC, en colaboración con otros usuarios externos (CIN2-CSIC, CNM-CSIC), poseerán la autonomía suficente para desarrollar y transferir dispositivos generadores basados en nanohilos,

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