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PID2020-114796RB-C21

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OPTICA PLANAR CON METAMATERIALES BASADOS EN OXIDOS: DISEÑO Y PROCESADO DE COMPON...

OPTICA PLANAR CON METAMATERIALES BASADOS EN OXIDOS: DISEÑO Y PROCESADO DE COMPONENTES OPTICOS ESTE SUBPROYECTO SE CENTRA EN LA DEMOSTRACION DE COMPONENTES OPTICOS PLANOS ELECTRICAMENTE ACTIVOS Y PASIVOS TRABAJANDO EN EL IR MEDIO (3-30 µM) UTILIZANDO METAMATERIALES Y METASUPERFICIES POLARITONICAS A BASE DE OXIDOS. PARA LOGR... ver más

01/01/2020

UPM

228K€

Presupuesto del proyecto: 228K€

Líder del proyecto

UNIVERSIDAD POLITÉCNICA DE MADRID No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 3944

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2020-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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UPM

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Líder del proyecto

UNIVERSIDAD POLITÉCNICA DE MADRID No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 3944

Presupuesto del proyecto 228K€

Descripción del proyecto ESTE SUBPROYECTO SE CENTRA EN LA DEMOSTRACION DE COMPONENTES OPTICOS PLANOS ELECTRICAMENTE ACTIVOS Y PASIVOS TRABAJANDO EN EL IR MEDIO (3-30 µM) UTILIZANDO METAMATERIALES Y METASUPERFICIES POLARITONICAS A BASE DE OXIDOS. PARA LOGRAR ESTE OBJETIVO UTILIZAREMOS POLARITONES DE PLASMON (PP) Y POLARITONES DE FONON (PHP) TANTO LOCALIZADOS COMO PROPAGATIVOS DE ALGUNOS DE LOS MEJORES MATERIALES DISPONIBLES ACTUALMENTE EN EL IR MEDIO: CD(ZN)O, UN MATERIAL PLASMONICO CON DESTACADAS FIGURAS DE MERITO, Y ZN(MG)O, UN DIELECTRICO ALTAMENTE POLAR CUYA RESONANCIA FONONICA SE PUEDE SINTONIZAR A TRAVES DEL CONTENIDO DE MG. LOS SUSTRATOS SOBRE LOS QUE SE INTEGRARAN INCLUYEN DOS MATERIALES ALTAMENTE POLARES, ZAFIRO Y SIC, QUE PERMITIRAN LA FORMACION DE POLARITONES HIBRIDOS PLASMON-FONON, Y PBSE, UTILIZADO COMERCIALMENTE PARA FOTODETECTORES EN LA REGION DE 3-5 µM.EL SUBPROYECTO DE LA UPM ABARCARA TRES AREAS DIFERENTES. PRIMERO, LA CARACTERIZACION OPTICA Y ELECTRICA DE LOS OXIDOS, DONDE SE ESTABLECERAN LOS PARAMETROS BASICOS DEL MATERIAL: FRECUENCIA DE PLASMA, PERDIDAS OPTICAS, CONCENTRACION DE ELECTRONES Y MOVILIDAD. EN SEGUNDO LUGAR, LA UPM UTILIZARA HERRAMIENTAS DE MODELADO AVANZADAS PARA COMPRENDER LA INTERACCION DE LA LUZ CON PLASMONES Y FONONES EN PELICULAS, NANOPARTICULAS Y HETEROESTRUCTURAS, Y PARA MODELAR TANTO EN 2D COMO EN 3D LOS METAMATERIALES Y METASUPERFICIES POLARITONICAS QUE SERVIRAN DE BASE PARA LOS COMPONENTES OPTICOS. FINALMENTE, LA UPM DESARROLLARA LOS PROCESOS DE NANOFABRICACION PARA DEFINIR LAS METASUPERFICIES Y EL ACCESO ELECTRICO EN LOS DISPOSITIVOS ELECTRICAMENTE ACTIVOS. ESTOS DISPOSITIVOS COMPRENDERAN COMPONENTES OPTICOS PASIVOS Y ELECTRICAMENTE SINTONIZABLES, INCLUIDOS FILTROS DE INDICE DE REFRACCION NEGATIVO, ABSORBENTES PERFECTOS, POLARIZADORES POLARITONICOS Y GUIAS DE ONDAS OPTICAS. XIDOS\OPTOELECTRONICA\FOTONICA\METAMATERIALES\FONONICA\PLASMONICA

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