NUEVAS METODOLOGIAS OPTICAS PARA LA MONITORIZACION AVANZADA DE PROCESOS CIGS IND...
NUEVAS METODOLOGIAS OPTICAS PARA LA MONITORIZACION AVANZADA DE PROCESOS CIGS INDUSTRIALES DE ALTA EFICIENCIA
IN4CIS PROPONE EL DESARROLLO Y DEMOSTRACION A NIVEL PRE-INDUSTRIAL DE METODOLOGIAS OPTICAS AVANZADAS PARA LA MONITORIZACION EN LINEA DE LOS PROCESOS DE FABRICACION DE MODULOS FOTOVOLTAICOS CIGS DE ALTA EFICIENCIA, ESTAS METODOLOG...
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Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2019-01-01
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Características del participante
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Descripción del proyecto
IN4CIS PROPONE EL DESARROLLO Y DEMOSTRACION A NIVEL PRE-INDUSTRIAL DE METODOLOGIAS OPTICAS AVANZADAS PARA LA MONITORIZACION EN LINEA DE LOS PROCESOS DE FABRICACION DE MODULOS FOTOVOLTAICOS CIGS DE ALTA EFICIENCIA, ESTAS METODOLOGIAS SE APLICARAN PARA LA MONITORIZACION DE NUEVOS PROCESOS POSTDEPOSITION (PDT) QUE SE BASAN EN TRATAMIENTOS DE DOPADO CON IMPUREZAS ALCALINAS Y QUE HAN PERMITIDO EL DESARROLLO DE CELULAS SOLARES CON VALORES REPRODUCIBLES DE EFICIENCIA > 20% (CON UN VALOR RECORD CERTIFICADO DE 22,6% EN ZSW), EL ESCALADO DE ESTOS PROCESOS PARA LA PRODUCCION DE MODULOS A NIVEL PRE-INDUSTRIAL REQUIERE DE LA DISPONIBILIDAD DE METODOLOGIAS QUE PERMITAN ASEGURAR LA UNIFORMIDAD DE LOS PROCESOS A ESCALA DE MODULO, LO QUE IMPLICA LA NECESIDAD DE DISPONER DE TECNICAS NO DESTRUCTIVAS DE MUY ALTA SENSIBILIDAD Y QUE SEAN ADECUADAS PARA SU IMPLEMENTACION COMO TECNICAS DE MONITORIZACION IN-LINE, LAS METODOLOGIAS OPTICAS PROPUESTAS EN IN4CIS SE BASAN EN EL DESARROLLO DE TECNICAS DE EXCITACION MULTI-LINEA RESONANTE DE ESPECTROSCOPIA RAMAN EN COMBINACION CON MEDIDAS DE FOTOLUMINISCENCIA QUE SE APLICARAN EN DIFERENTES ETAPAS DEL PROCESO DE FABRICACION DE MODULOS CIGS DE ALTA EFICIENCIA, LA UTILIZACION DE ESTRATEGIAS DE EXCITACION RESONANTE RAMAN/PL PERMITIRA OBTENER UNA SENSIBILIDAD MUY ALTA A LA PRESENCIA DE DEFECTOS ESTRUCTURALES ESPECIFICOS ASOCIADOS A LOS PROCESOS, LO QUE PERMITIRA SU APLICACION PARA LA MONITORIZACION DE LA UNIFORMIDAD DE LOS PROCESOS EN COMBINACION CON TIEMPOS DE MEDIDA ADECUADOS PARA SU IMPLEMENTACION A NIVEL IN-LINE, EN ESTE SENTIDO, EL SUBPROYECTO DESARROLLADO DESDE LA UB ESTARA DEDICADO A LA CARACTERIZACION ESTRUCTURAL MICROSCOPICA AVANZADA DE MUESTRAS Y DISPOSITIVOS DE PRUEBA PARA LA CALIBRACION CUANTITATIVA DEL SISTEMA DE INSPECCION OPTICA, APLICANDO LA SOLIDA EXPERIENCIA DEL GRUPO DE LA UB EN LA CARACTERIZACION MICROSCOPICA DE MATERIALES Y DISPOSITIVOS, LA APLICACION DE TECNICAS AVANZADAS SEM Y TEM PERMITIRA PROFUNDIZAR EN EL CONOCIMIENTO DEL IMPACTO DE LOS PARAMETROS CLAVE DEL PROCESO PDT EN LA ESTRUCTURA MICROSCOPICA DE LA REGION DE LA SUPERFICIE DE LOS CIGS EN LOS DISPOSITIVOS PROCESADOS, Y DESARROLLAR MODELOS CUANTITATIVOS PARA LA EVALUACION DE LA DEPENDENCIA DE LAS CARACTERISTICAS ESPECTRALES DE RAMAN Y PL CON LA PRESENCIA Y DENSIDAD DE DEFECTOS MICROSCOPICOS EN LA REGION SUPERFICIAL DE LOS CIGS QUE PUEDAN AFECTAR AL RENDIMIENTO DEL DISPOSITIVO, TECNOLOGIAS FOTOVOLTAICAS DE CAPA DELGAD\CALCOPIRITAS\TEM\MODULOS CIGS\MONITORIZACION IN-LINE DE PROCESOS\RAMAN/FOTOLUMINISCENCIA