Descripción del proyecto
LA RIQUEZA Y EL BIENESTAR SOCIAL DE LAS SOCIEDADES ACTUALES SE BASAN EN LA PRODUCTIVIDAD DE LA TECNOLOGIA MODERNA, SIENDO LA CIENCIA DE MATERIALES Y LA INDUSTRIA DE SEMICONDUCTORES UN PILAR FUNDAMENTAL DE LA SOCIEDAD ACTUAL. ADEMAS, LA CIENCIA DE MATERIALES A NANOESCALA ESTA ADQUIRIENDO CADA VEZ MAS IMPORTANCIA, COMO ES EVIDENTE EN LA INDUSTRIA MICROELECTRONICA, DONDE LA ESCALA ACTUAL DE LOS PROCESADORES ES INFERIOR A 10 NM. AFM, ESPECTROSCOPIA RAMAN (ER) Y DIFRACCION DE RAYOS X (XRD) SON HERRAMIENTAS DE INVESTIGACION FUNDAMENTALES PARA LA CIENCIA DE MATERIALES Y EN EL CAMPO MAS ESPECIFICO DE LA INVESTIGACION Y LA TECNOLOGIA DE SEMICONDUCTORES. ESTAS TECNICAS SON TECNOLOGIAS CLAVE PARA EL DESARROLLO, LA FABRICACION Y EL CONTROL DE CALIDAD DE SEMICONDUCTORES. LAS TECNICAS DE MICROSCOPIA DE FUERZA ATOMICA (AFM) HAN REVOLUCIONADO LA NANOCIENCIA Y LA NANOTECNOLOGIA, PERMITIENDO REALIZAR UNA VARIEDAD DE EXPERIMENTOS (ADQUISICION DE IMAGENES, CARACTERIZACION E INCLUSO MANIPULACION) A ESCALA NANOMETRICA. EL AFM TRASCIENDE SU PAPEL CONVENCIONAL DE MERO MICROSCOPIO; DE HECHO, SE CONSIDERA UN NANOLABORATORIO EN LA PUNTA. LAS TECNICAS AFM SON EXTREMADAMENTE VERSATILES Y ABARCAN DESDE APLICACIONES EN BIOLOGIA O MEDICINA HASTA QUIMICA, FISICA Y CIENCIA DE MATERIALES. EL AFM ES TAMBIEN UNA PODEROSA HERRAMIENTA EN EL CAMPO DE LOS SEMICONDUCTORES Y LA MICROELECTRONICA NO SOLO COMO INSTRUMENTOS DE INVESTIGACION CIENTIFICA, SINO TAMBIEN PARA LA CARACTERIZACION Y CONTROL DE CALIDAD EN APLICACIONES INDUSTRIALES. A PESAR DE SU USO EXTENSIVO Y CAPACIDADES MULTIFACETICAS, EL AFM SUFRE ALGUNAS LIMITACIONES INHERENTES, LO QUE REQUIERE UNA SOLUCION A LA QUE PUEDA ACCEDER NUESTRO DISEÑO PROPUESTO. EL OBJETIVO DEL PRESENTE PROYECTO MICROSCOPIO DE FUERZA ATOMICA COMO NANOLABORATORIO: FUERZAS Y FOTONES PARA LA NANOCARATERIZACION EN MICRO Y NANOELECTRONICA (AFMNANOLABELECT) ES DISEÑAR, FABRICAR Y PROBAR LA VALIDEZ DE UN NOVEDOSO EQUIPO BASADO EN AFM QUE TENGA CARACTERISTICAS OPTIMAS COMO AFM Y COMO SISTEMA OPTICO DE ALTO RENDIMIENTO. EL PRINCIPAL DESAFIO SERA PERMITIR UN ACCESO DE ALTA APERTURA NUMERICA PARA LA CARACTERIZACION OPTICA, ASI COMO UN ACCESO DE VISTA FRONTAL/PARALELA PARA APLICACIONES TERS Y XRD; MANTENIENDO UNA ALTA RIGIDEZ, UN BAJO RUIDO Y UNA BAJA DERIVA EN LAS APLICACIONES AFM. EL CRITERIO DE DISEÑO FUNDAMENTAL ES SEPARAR EL SISTEMA AFM EN TRES PARTES DIFERENTES (Y MODULARES), CADA UNA CON REQUISITOS DIFERENTES CON RESPECTO A ESTABILIDAD, FUNCIONALIDAD Y TAMAÑO. LA NANO ETAPA AFM REQUIERE ESTABILIDAD (SUB) NANOMETRICA, LA SEGUNDA MICRO ETAPA REQUIERE ESTABILIDAD DE LAMBDA/2 (LAMBDA=LONGITUD DE ONDA OPTICA), MIENTRAS QUE LA TERCERA ETAPA MESO PUEDE TENER UNA RESOLUCION Y ESTABILIDAD (OPTICA) MAS BAJAS, PUESTO QUE LAS MEDIDAS CON LOS SISTEMAS DE XRD ACTUALES SE LIMITARAN A APROXIMADAMENTE ZONAS DE 100 MICROMETROS Y, POR TANTO, MUY POR ENCIMA DE LOS CRITERIOS DE DISEÑO PARA ESTA TERCERA ETAPA. EN NUESTRA HUMILDE OPINION, UN POTENTE SISTEMA DE NANOCARACTERIZACION BASADO EN AFM COMO EL QUE AQUI SE PROPONE, QUE PERMITA UNA COMBINACION SIMPLE Y MODULAR CON OTRAS TECNICAS, EN PARTICULAR ER Y XRD, SIN DUDA IMPULSARA LA INVESTIGACION, PERO TAMBIEN MAS APLICACIONES TECNOLOGICAS EN EL CAMPO DE LOS SEMICONDUCTORES Y LA MICRO/NANOTECNOLOGIA, TAL Y COMO APUNTA EL PROYECTO ESTRATEGICO DE MICROELECTRONICA Y SEMICONDUCTORES, INICIATIVA PERTE CHIP. MMICROSCOPIA DE FUERZA ATOMICA\SEMICONDUCTORES\DIFRACCION DE RAYOS X\TERS\ESPECTROSCOPIA RAMAN\NANO/MICROELECTRONICA\MICROSCOPIA OPTICA