Descripción del proyecto
LA FOTONICA DE SILICIO ES UN CAMPO DE I+D MUY ACTIVO, CUYAS APLICACIONES VAN DESDE LAS COMUNICACIONES HASTA EL SENSADO, SU OBJETIVO ES APROVECHAR LAS INSTALACIONES DE LA INDUSTRIA CMOS ACTUAL PARA FABRICAR MASIVAMENTE CHIPS FOTONICOS INTEGRADOS DE BAJO COSTE,LOS PRINCIPALES IMPULSORES DE ESTA TECNOLOGIA, EN LA QUE INVIERTEN GRANDES EMPRESAS COMO INTEL, IBM, ACACIA O GENALYTE, SON LOS GRANDES CENTROS DE DATOS QUE REQUIEREN INTERCONEXIONES OPTICAS DE GRAN CAPACIDAD Y LAS REDES DE SENSORES DEL INTERNET DE LAS COSAS,INCORPORAR NUEVOS MATERIALES EN LOS PROCESOS CMOS EXISTENTES ES COMPLICADO, AFORTUNADAMENTE, LA LITOGRAFIA DE SILICIO PERMITE LA DEFINICION DE ESTRUCTURAS PERIODICAS A ESCALA SUBLONGITUD DE ONDA (SWG), A TRAVES DE LAS QUE LA LUZ SE PROPAGA SIN PERDIDAS, ESTAS ESTRUCTURAS SWG, QUE SE COMPORTAN COMO METAMATERIALES CUYAS CARACTERISTICAS PUEDEN DISEÑARSE, HAN SUSCITADO UN GRAN INTERES EN LA COMUNIDAD CIENTIFICA DESDE QUE FUERON PROPUESTAS POR PAVEL CHEBEN, ACTUALMENTE, GRUPOS DE INVESTIGACION DE TODO EL MUNDO UTILIZAN LAS ESTRUCTURAS SWG PARA DISEÑAR DISPOSITIVOS INNOVADORES, SIENDO LA MAYORIA DE ELLOS FABRICADOS CON LITOGRAFIA E-BEAM, QUE PROPORCIONA UN TAMAÑO MINIMO FABRICABLE DE ~60 NM, NUESTRO GRUPO LLEVA UNA DECADA TRABAJANDO EN ESTA TEMATICA (LOS ULTIMOS TRES AÑOS FINANCIADOS POR EL PROYECTO SENMIRA, TEC2016-80718-R), DURANTE ESTE PERIODO HEMOS REALIZADO VARIAS CONTRIBUCIONES FUNDAMENTALES EN EL CAMPO, ADEMAS, DESDE MARZO DE 2018 COLABORAMOS CON LA EMPRESA EMERGENTE ALCYON PHOTONICS PARA IMPLEMENTAR DISPOSITIVOS SWG EN LA TECNOLOGIA DE LA FOTONICA DE SILICIO, EL OBJETIVO PRINCIPAL DE ESTE PROYECTO ES AVANZAR EN EL DESARROLLO DE DISPOSITIVOS SWG PARA APLICACIONES DEL MUNDO REAL, PARA ELLO, TRABAJAREMOS SIMULTANEAMENTE EN DOS ACTIVIDADES COMPLEMENTARIAS:- ESTRUCTURAS SWG CON NUEVAS GEOMETRIAS QUE, AL RELAJAR LOS REQUISITOS DE FABRICACION, AYUDEN A REDUCIR LA BRECHA ENTRE LA INVESTIGACION Y LAS APLICACIONES COMERCIALES,- TECNICAS DE INGENIERIA SWG PARA DESARROLLAR DISPOSITIVOS NOVEDOSOS DE ALTO RENDIMIENTO, CON APLICACIONES DE GRAN INTERES PRACTICO COMO LIDAR, SENSADO Y COMUNICACIONES,PARA LOGRAR ESTE PROPOSITO GENERAL, SE DEFINEN LAS SIGUIENTES LINEAS DE ACTIVIDAD:- NUEVOS PATRONES PARA ESTRUCTURAS SWG, EXPLORAREMOS NUEVAS GEOMETRIAS NANOESTRUCTURADAS PARA AUMENTAR EL PERIODO Y EL TAMAÑO MINIMO DE LA ESTRUCTURA, FACILITANDO ASI LA FABRICACION MASIVA MEDIANTE TECNICAS LITOGRAFICAS,- FILTROS DE BRAGG INTEGRADOS CON RESPUESTA EN FRECUENCIA ARBITRARIA, ADAPTAREMOS LAS TECNICAS DE DISEÑO UTILIZADAS EN LAS REDES DE BRAGG EN FIBRA PARA IMPLEMENTAR FILTROS INTEGRADOS MULTIBANDA CON ANCHOS DE BANDA SUBNANOMETRICOS Y TRANSFORMADORES DE HILBERT,- CONFORMADORES DE HAZ INTEGRADOS MEDIANTE REDES DE DIFRACCION LATERAL, CONTINUAREMOS NUESTRO TRABAJO RECIENTE SOBRE EL DISEÑO DE DEFLECTORES BRAGG DISTRIBUIDOS BASADOS EN ESTRUCTURAS SWG PARA IMPLEMENTAR ALIMENTADORES DE ANTENA Y DEMULTIPLEXORES DE LONGITUD DE ONDA,- ANTENAS EN FASE DIRECCIONABLES DE ALTAS PRESTACIONES, COMBINAREMOS LAS VENTAJAS DE LAS GUIAS DE ONDA DE DIFRACCION LATERAL Y LAS GUIAS DE ONDA SWG PARA DESARROLLAR ANTENAS EN FASE OPTICAS PARA LIDAR,- BIOSENSORES SWG CON DETECCION COHERENTE, DESARROLLAREMOS BIOSENSORES FOTONICOS ULTRASENSIBLES Y DE TAMAÑO REDUCIDO COMBINANDO EL USO DE GUIAS SENSORAS SWG CON TECNICAS DE DETECCION COHERENTES, OPTICA INTEGRADA\FOTONICA DEL SILICIO\METAMATERIAL\SUB-LONGITUD DE ONDA\SWG\LIDAR\FILTRO DE BRAGG\(BIO)SENSOR