LA FOTONICA DE SILICIO (SI) ES UNA TECNOLOGIA HABILITADORA CLAVE (KET) EN MUCHOS CAMPOS DE APLICACION GRACIAS A LA TECNOLOGIA MADURA DEL PROCESO DE SI, EL TAMAÑO DE LA OBLEAS DE SILICIO Y LAS PROMETEDORAS PROPIEDADES OPTICAS DEL S...
ver más
Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2023-01-01
No tenemos la información de la convocatoria
0%
100%
Información adicional privada
No hay información privada compartida para este proyecto. Habla con el coordinador.
¿Tienes un proyecto y buscas un partner? Gracias a nuestro motor inteligente podemos recomendarte los mejores socios y ponerte en contacto con ellos. Te lo explicamos en este video
Proyectos interesantes
PICTURE
High Performance and High Yield Heterogeneous III V Si Photo...
4M€
Cerrado
INsPIRE
Chip scale INtegrated Photonics for the mid Infra REd
1M€
Cerrado
PID2019-110877GB-I00
PLATAFORMA HIBRIDA DE NITRURO DE SILICIO PARA CIRCUITOS OPTI...
97K€
Cerrado
SILAMPS
Silicon integrated lasers and optical amplifiers
2M€
Cerrado
PID2020-115353RA-I00
METAMATERIALES SUBLONGITUD DE ONDA PARA OPTICA INTEGRADA DE...
94K€
Cerrado
NARIoS
Nano Ridge Engineering for Densely Integrated III V Lasers D...
2M€
Cerrado
Fecha límite de participación
Sin fecha límite de participación.
Descripción del proyecto
LA FOTONICA DE SILICIO (SI) ES UNA TECNOLOGIA HABILITADORA CLAVE (KET) EN MUCHOS CAMPOS DE APLICACION GRACIAS A LA TECNOLOGIA MADURA DEL PROCESO DE SI, EL TAMAÑO DE LA OBLEAS DE SILICIO Y LAS PROMETEDORAS PROPIEDADES OPTICAS DEL SI. LA INTEGRACION EPITAXIAL DIRECTA DE LASERES III-V EN CHIPS FOTONICOS DE SI ES EL PRINCIPAL DESAFIO PARA LA REALIZACION DE CHIPS FOTONICOS DENSOS. EN GABRIEL, DEMOSTRARE UN LASER DE DIODO BASADO EN GASB DE INFRARROJO MEDIO (IR MEDIO) INTEGRADO EPITAXIALMENTE EN UNA OBLEA FOTONICA DE SI MODELADA CON GUIAS DE ONDA DE SIN REVESTIDAS DE SIO2. ESTE PROYECTO ABORDARA LOS PRINCIPALES RETOS RELACIONADOS CON EL CRECIMIENTO EPITAXIAL, CENTRADO EN REDUCIR LOS DEFECTOS GENERADOS EN LA INTERFAZ ENTRE GASB Y SI EXACTO (001) (COMPATIBLE CON LOS ESTANDARES DE LA INDUSTRIA), Y LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS, CENTRADO EN MEJORAR EL ACOPLAMIENTO ENTRE EL LASER BASADO EN GASB Y LAS GUIAS DE ONDA PASIVAS DE SIN. EL PROYECTO GABRIEL APUNTA A LA PORCION DE ONDA CORTA DEL IR MEDIO (SWIR) CUYA LONGITUD DE ONDA SE EXTIENDE DE 1,6 A 3 µM. ESTA GAMA CONTIENE FUERTES CARACTERISTICAS DE ABSORCION DE MUCHOS GASES Y PRODUCTOS QUIMICOS QUE SON DE INTERES CRITICO PARA APLICACIONES DE BIODETECCION, MEDICAS Y AMBIENTALES. ASI, EL PROYECTO GABRIEL ALLANARA EL CAMINO PARA LA INTEGRACION RENTABLE Y A GRAN ESCALA DE FUENTES DE LUZ EN CHIPS FOTONICOS DE SI, ESTANDO POR TANTO, PERFECTAMENTE ALINEADO CON LOS OBJETIVOS DE DESARROLLO SOSTENIBLE NUMERO 3 Y 13 DE NACIONES UNIDAS, BUENA SALUD Y BIENESTAR Y ACCION CLIMATICA (HTTPS://WWW.UN.ORG/SUSTAINABLEDEVELOPMENT/). EPITAXIA\NANOFABRICACION\NANOTECHNOLOGIA\CHIPS\FOTONICA\LASERES\SEMICONDUCTORES III-V