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PID2020-116612RB-C31

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FUNCIONALIZACION AVANZADA DE NANOMATERIALES DE CARBONO MEDIANTE RADIACION LASER...

FUNCIONALIZACION AVANZADA DE NANOMATERIALES DE CARBONO MEDIANTE RADIACION LASER DE ALTA INTENSIDAD EL OBJETIVO DEL SUBPROYECTO 1 ES FABRICAR ELECTRODOS POROSOS Y CONDUCTORES FORMADOS POR NANOESTRUCTURAS DE CARBONO, NANOPAREDES DE GRAFENO O GRAFENO INDUCIDO POR LASER Y OXIDOS NANOESTRUCTURADOS BINARIOS O TERNARIOS COMO CEO2 DOPA... ver más

01/01/2020

CSIC

133K€

Presupuesto del proyecto: 133K€

Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2020-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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CSIC

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Líder del proyecto

AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 2-3 | 552M€

Presupuesto del proyecto 133K€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto EL OBJETIVO DEL SUBPROYECTO 1 ES FABRICAR ELECTRODOS POROSOS Y CONDUCTORES FORMADOS POR NANOESTRUCTURAS DE CARBONO, NANOPAREDES DE GRAFENO O GRAFENO INDUCIDO POR LASER Y OXIDOS NANOESTRUCTURADOS BINARIOS O TERNARIOS COMO CEO2 DOPADO CON CO, NIO DOPADO CON MN, CU, O CO; COOX CO-DOPADO CON FE Y NI, Y COO CO-DOPADO CON NI Y MN, PARA UN AUMENTO SUSTANCIAL DE LA CAPACIDAD DE ALMACENAMIENTO DE CARGA A TRAVES DE REACCIONES REDOX EN MULTIPLES ESTADOS DE OXIDACION, LAS NANOESTRUCTURAS DE CARBONO SINTETIZADOS SOBRE SUPERFICIES DE COLECTORES DE CORRIENTE METALICOS MEDIANTE DEPOSITO QUIMICO EN FASE DE VAPOR O NANOESTRUCTURAS DE GRAFENO OBTENIDAS POR IRRADIACION LASER DIRECTA DE SUSTRATOS POLIMERICOS MEDIANTE UN LASER DE CO2 SE SUMERGIRAN EN SOLUCIONES ACUOSAS QUE CONTIENEN PRECURSORES ORGANICOS METALICOS (ACETATOS METALICOS, NITRATOS), LAS NANOESTRUCTURAS POSTERIORMENTE SE PROCESARAN MEDIANTE UN SISTEMA DE MARCADO LASER PARA INDUCIR EL CALENTAMIENTO RAPIDO Y EL CRECIMIENTO DE NANOCRISTALES DE OXIDO EN LA SUPERFICIE DE LAS NANOESTRUCTURAS DE CARBONO FUERA DEL EQUILIBRIO TERMODINAMICO, ALTERNATIVAMENTE, LOS OXIDOS SIMPLES Y BINARIOS TAMBIEN SE DEPOSITARAN EN LA SUPERFICIE DE LOS NANOMATERIALES BASADOS EN CARBONO POR PULVERIZACION CATODICA CON MAGNETRON DE CC PULSADA,ADEMAS, SE OBTENDRAN ELECTRODOS HIBRIDOS BASADOS EN OXIDO DE GRAFENO REDUCIDO CO-DOPADO CON N Y B, MEDIANTE IRRADIACION LASER PULSADO CON EMISION EN EL DOMINIO UV DE DISPERSIONES ACUOSAS CONGELADAS QUE CONTIENEN OXIDO DE GRAFENO, ACIDO BORICO, Y MEZCLAS DE DERIVADOS DE METAL-FTALOCIANINA Y METAL-PORFIRINA, MEDIANTE LOS PROCESOS FOTOQUIMICOS Y FOTOTERMICOS RAPIDOS INDUCIDOS POR LA RADIACION LASER, INTENTAMOS LA REDUCCION DEL OXIDO DE GRAFENO AISLANTE A UN MATERIAL CONDUCTOR SIMILAR AL GRAFENO Y A LA DESCOMPOSICION SIMULTANEA DE LOS PRECURSORES ORGANICOS, LO QUE PODRIA CONDUCIR AL DOPAJE CON N, B-HETEROATOMO Y FORMACION DE NANOCRISTALES DE OXIDO, LOS NANOMATERIALES SINTETIZADOS SERAN DEPOSITADOS EN FORMA DE PELICULAS DELGADAS NANOHIBRIDAS SOBRE UN SUSTRATO SITUADO EN PARALELO CON LAS DISPERSIONES IRRADIADAS, POR OTRO LADO, TAMBIEN SE IRRADIARAN DISPERSIONES ACUOSAS SIMILARES, CON EL OBJETIVO DE LA FORMACION DE MATERIALES NANOCOMPUESTOS EN LA FASE LIQUIDA, LA CENTRIFUGACION Y EL SECADO POSTERIORES PERMITIRAN RECOLECTAR CANTIDADES SIGNIFICATIVAS DE MATERIAL FOTO-TRANSFORMADO QUE SE CONVERTIRA EN ELECTRODOS EN FORMA DE CAPAS DE APROXIMADAMENTE 100 µM DE ESPESOR, MEDIANTE PRENSADO, COMO ALTERNATIVA SE OBTENDRAN TAMBIEN CAPAS POR SPIN-COATING DE LAS DISPERSIONES IRRADIADAS, SEGUIDO DE UN PROCESO DE SECADO CON TEMPERATURA CONTROLADA, ESTE ENFOQUE BASADO EN POLVO ES MAS SENCILLO DEBIDO QUE COMPARTE PROCESOS QUE TAMBIEN SE UTILIZAN EN LA FABRICACION DE BATERIAS CONVENCIONALES, POR LO QUE ES RELEVANTE PARA UNA FACIL TRANSFERENCIA A LA INDUSTRIA, SUPERCONDENSADORES\ELECTRODOS HIBRIDOS NANOESTRUCTURADOS\PROCESADO LASER\CVD\TECNOLOGIAS MICROFLUIDICAS

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