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UNPV08-4E-009

Financiado

ELIPSÓMETRO ESPECTROSCÓPICO DE ÁNGULO VARIABLE

El sistema de elipsometría que se solicita es una técnica óptica no destructiva para la caracterización avanzada en apilamientos mono- y multicapas que incluye extensiones para espectrografías UV y NIR así como la elipsométrica y... ver más

01/01/2008

UPV

215K€

Presupuesto del proyecto: 215K€

Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DEL PAIS VASCO/EUSKAL HERRIKO UNI... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 45

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2008-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DEL PAIS VASCO/EUSKAL HERRIKO UNI... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 45

Presupuesto del proyecto 215K€

Descripción del proyecto El sistema de elipsometría que se solicita es una técnica óptica no destructiva para la caracterización avanzada en apilamientos mono- y multicapas que incluye extensiones para espectrografías UV y NIR así como la elipsométrica y fotométrica y el tratamiento de diversos parámetros físicos (transiciones ópticas, índices de refracción y espesores de láminas delgadas, variaciones porosimétricas, entre otros), El sistema puede detectar espesores de recubrimientos entre 1 nm y 5 µm y propiedades ópticas de los materiales en toda la gama del espectro así como del coeficiente de absorción, Estas propiedades se pueden correlacionar con otros parámetros de interés mediante apropiados modelos físicos, como puedan ser grados de mezcla, inhomogeneidades, anisotropía y rugosidad superficial, Este equipo, no disponible en nuestra Universidad, además del uso en investigaciones relacionadas con las líneas de los grupos solicitantes, permitirá ampliar la cobertura del Servicio General MACROCONDUCTA-MESOESTRUCTURA-NANOTECNOLOGÍA de cara al exterior para todos aquellos desarrollos relacionados con dispositivos planos, semiconductores, dispositivos de memoria, SAMs y ALDs, OLEDs y PLEDs, aplicaciones fotovoltaicas, electrónica basada en polímeros, litografía y recubrimientos ópticos, fotónica (en base a la extensión NIR), medidas in situ, materiales porosos en energía, y otras aplicaciones,

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