DESARROLLO DE RECUBRIMIENTOS FUNCIONALES POR PVD SOBRE PLACAS BIPOLARES DE AL PA...
DESARROLLO DE RECUBRIMIENTOS FUNCIONALES POR PVD SOBRE PLACAS BIPOLARES DE AL PARA PILAS DE COMBUSTIBLE (PEM)
EL SUBPROYECTO ODISEA-PVD TIENE EL PROPOSITO DE INVESTIGAR NUEVOS RECUBRIMIENTOS FUNCIONALES, POR LA TECNICA PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION, PARA MEJORAR EL RENDIMIENTO DE PLACAS BIPOLARES DE ALUMINIO EN PILAS DE COMBUSTIBLE DEL TIPO...
ver más
Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2008-01-01
No tenemos la información de la convocatoria
0%
100%
Información adicional privada
No hay información privada compartida para este proyecto. Habla con el coordinador.
¿Tienes un proyecto y buscas un partner? Gracias a nuestro motor inteligente podemos recomendarte los mejores socios y ponerte en contacto con ellos. Te lo explicamos en este video
Proyectos interesantes
ENE2009-14750-C05-04
DESARROLLO DE RECUBRIMIENTOS FUNCIONALES POR PVD SOBRE PLACA...
76K€
Cerrado
DEMMEA
Understanding the Degradation Mechanisms of Membrane-Electro...
3M€
Cerrado
IPT-2012-0722-120000
INNOVACIÓN EN TECNOLOGÍAS DE FABRICACIÓN Y RECUBRIMIENTOS PA...
642K€
Cerrado
CTQ2010-18859
ESTUDIO DE MOLECULAS OPTICA Y ELECTROQUIMICAMENTE ACTIVAS Y...
75K€
Cerrado
PCIN-2017-106
MATERIALES HIBRIDOS PARA LA PASIVACION DE SUPERFICIES DE SI...
150K€
Cerrado
MAT2010-19837-C06-03
MATERIALES MICROCRISTALINOS Y NANOPOROSOS PARA ELECTRODOS DE...
97K€
Cerrado
Fecha límite de participación
Sin fecha límite de participación.
Descripción del proyecto
EL SUBPROYECTO ODISEA-PVD TIENE EL PROPOSITO DE INVESTIGAR NUEVOS RECUBRIMIENTOS FUNCIONALES, POR LA TECNICA PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION, PARA MEJORAR EL RENDIMIENTO DE PLACAS BIPOLARES DE ALUMINIO EN PILAS DE COMBUSTIBLE DEL TIPO PROTON EXCHANGE MEMBRANES DE BAJO PESO, EL OBJETIVO DE ESTE PROYECTO ES ALCANZAR INTERCARAS CON BAJA RESISTIVIDAD ELECTRICA Y BUEN COMPORTAMIENTO FRENTE A LA CORROSION EN CONDICIONES REALES DE TRABAJO: MEDIO ACIDO, T~70-80ºC, Y COMPRESION DE APILAMIENTO ALREDEDOR DE 200 N/CM2, LAS ESTRATEGIAS PARA ALCANZAR LOS OBJETIVOS MARCADOS CONSISTEN EN DESARROLLAR RECUBRIMIENTOS CON ARQUITECTURAS MULTICAPA DE ESPACIADO NANOMETRICO (BILAYER PERIOD < 20-30 NM) CON EL FIN DE OBTENER CAPAS CONDUCTORAS, DE ALTA DENSIDAD, LIBRES DE POROSIDADES, Y RESISTENTES A LA CORROSION, LAS PROPIEDADES DE MICRO-ESTRUCTURA, COMPORTAMIENTO FRENTE A CORROSION Y CONDUCTIVIDAD ELECTRICA DE LAS INTERCARAS FILM/PLATE SERAN INVESTIGADOS EN FUNCION DE LAS CONDICIONES DE DEPOSITO DE LOS RECUBRIMIENTOS ESTUDIADOS, ESTE SUBPROYECTO SE ENMARCA EN LA LINEA INSTRUMENTAL 5 DE LA ACCION ESTRATEGICA DE NANOCIENCIA Y NANOTECNOLOGIA, NUEVOS MATERIALES Y PROCESOS INDUSTRIALES, ASI COMO EN LA PRIORIDAD NMP, PVD\multicapas\corrosion\placas bipolares