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TEC2017-89955-P

Financiado

DESARROLLO, CARACTERIZACION Y MODELADO DE DISPOSITIVOS MEMRISTIVOS DE OXIDO DE G...

DESARROLLO, CARACTERIZACION Y MODELADO DE DISPOSITIVOS MEMRISTIVOS DE OXIDO DE GRAFENO REDUCIDO POR LASER ORIENTADOS A APLICACIONES NEUROMORFICAS ESTE PROYECTO DESARROLLARA UNA NUEVA TECNOLOGIA DE BAJO COSTE PARA LA PRODUCCION DE MEMRISTORES FABRICADOS EN OXIDO DE GRAFENO REDUCIDO, INTEGRABLES EN SUSTRATOS FLEXIBLES, Y ORIENTADOS A APLICACIONES DE COMPUTACION NEUROMORFICA,L... ver más

01/01/2017

UGR

85K€

Presupuesto del proyecto: 85K€

Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DE GRANADA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 5507

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2017-01-01

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Participantes

UGR

Lider

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Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DE GRANADA

Total investigadores 5507

Presupuesto del proyecto 85K€

Descripción del proyecto ESTE PROYECTO DESARROLLARA UNA NUEVA TECNOLOGIA DE BAJO COSTE PARA LA PRODUCCION DE MEMRISTORES FABRICADOS EN OXIDO DE GRAFENO REDUCIDO, INTEGRABLES EN SUSTRATOS FLEXIBLES, Y ORIENTADOS A APLICACIONES DE COMPUTACION NEUROMORFICA,LA TECNICA DE REDUCCION DEL OXIDO DE GRAFENO, BASADA EN UNA LITOGRAFIA FOTOTERMICA REALIZADA DE FORMA SELECTIVA Y MODULADA MEDIANTE LASER, HA SIDO INTRODUCIDA RECIENTEMENTE EN EL LABORATORIO DE NANOELECTRONICA DE LA UNIVERSIDAD DE GRANADA, HA MOSTRADO SU ENORME VERSATILIDAD PARA LA MODULACION DE LA CONDUCTIVIDAD Y LA PRODUCCION DE PATRONES CONDUCTORES SIN NECESIDAD DE MASCARAS, TAMBIEN SE HA PROBADO DE FORMA EXITOSA EN LA PRODUCCION DE ELECTRODOS MICROMETRICOS PARA MEMRISTORES DE TIO2,POR OTRO LADO, DIVERSOS TRABAJOS CIENTIFICOS, ASI COMO NUESTRAS INVESTIGACIONES PRELIMINARES, HAN DEMOSTRADO EL POTENCIAL MEMRISTIVO DEL OXIDO DE GRAFENO Y EL OXIDO DE GRAFENO REDUCIDO, ESTE PROYECTO PRETENDE COMBINAR Y OPTIMIZAR TODO EL CONOCIMIENTO EXISTENTE CON EL OBJETIVO FINAL DE PRODUCIR DISPOSITIVOS MEMRISTIVOS INTEGRAMENTE BASADOS EN OXIDO DE GRAFENO (ELECTRODOS Y ELEMENTO ACTIVO) LITOGRAFIADOS MEDIANTE LASER, EL NUEVO DISPOSITIVO, EL LAREGOXMEM (LASER-REDUCED-GRAPHENE-OXIDE-MEMRISTOR), CONSTITUIRA UNA TECNOLOGIA DISRUPTIVA DESTINADA A NUTRIR NUEVOS PARADIGMAS DE LA COMPUTACION EN UN ENTORNO DE DISPOSITIVOS ELECTRONICOS FLEXIBLES, DISTRIBUIDOS Y BIOINSPIRADOS,EL DESARROLLO DEL PROYECTO SE BASARA EN TRES PILARES FUNDAMENTALES SOBRE LOS QUE SE TRABAJARA SIMULTANEAMENTE:EL PRIMER PILAR ESTA CONSTITUIDO POR LA OPTIMIZACION DEL PROCESO DE FABRICACION DE LA MATERIA PRIMA (OXIDO DE GRAFENO), LOS ELEMENTOS MEMRISTIVOS INDIVIDUALES (LAREGOXMEMS) Y LOS ELEMENTOS CIRCUITALES BASADOS EN ELLOS,EL SEGUNDO PILAR ESTA BASADO EN EL DESARROLLO DE LAS TECNICAS DE CARACTERIZACION ELECTRICA Y ESTRUCTURAL QUE PERMITAN REALIZAR EXPERIMENTOS PARA ENTENDER EL ORIGEN DE LA MEMRISTANCIA Y LOS MECANISMOS DE CONDUCCION EN EL OXIDO DE GRAFENO, SERA NECESARIO REVISITAR LAS TECNICAS DE CARACTERIZACION ELECTRICA CONVENCIONALES, PERO TAMBIEN SE AVANZARA EN EL DESARROLLO DE NUEVOS PROTOCOLOS EXPERIMENTALES ESPECIFICOS PARA, POR EJEMPLO, CORRELACIONAR EL RUIDO ELECTRICO CON LA MEMRISTANCIA, O LA DISTRIBUCION DE LAS ESPECIES FUNCIONALES DEL OXIDO DE GRAFENO EN TIEMPO REAL DURANTE LOS PROCESOS DE PROGRAMACION/APRENDIZAJE A TRAVES DE XPS,EL TERCER PILAR CONSTITUIRA EL MECANISMO DE REALIMENTACION QUE, BASADO EN LAS MEDIDAS EXPERIMENTALES, PERMITA ENTENDER Y OPTIMIZAR LA OPERACION DE LOS LAREGOXMEMS A TRAVES DEL MODELADO Y LA SIMULACION NUMERICA, EN ESTE CONTEXTO, TAMBIEN SE DESARROLLARAN LOS MODELOS CIRCUITALES QUE PERMITAN INCLUIR LOS DISPOSITIVOS EN HERRAMIENTAS TCAD PARA SU SIMULACION EN DISEÑOS COMPLEJOS,EN CADA TAREA SE CONTARA CON LA COLABORACION Y REALIMENTACION DE ACTORES EXTERNOS ESPECIALISTAS EN CADA AREA: UNIVERSIDAD TECNICA DE MUNICH (ELECTRONICA FLEXIBLE E IMPRIMIBLE); AGENCIA PARA LA EXPLORACION AEROESPACIAL JAPONESA (CARACTERIZACION EXPERIMENTAL); LABORATORIO DE AUTOMATISLERUNG MESSTECHNIK OPTIK (AMO GMBH) DE AQUISGRAN EN ALEMANIA (SIMULACION Y MODELADO),FINALMENTE, LA RELEVANCIA DE ESTE PROYECTO SE SITUA BAJO LA PREMISA DE DESARROLLAR, LOCALMENTE, UNA TECNOLOGIA NOVEDOSA, COMPETITIVA, CON UNA GRAN PROYECCION FUTURA, SIN NECESIDAD DE ACUDIR A LAS GRANDES INFRAESTRUCTURAS DE FABRICACION Y PRETENDIENDO DEMOSTRAR QUE AUN EXISTEN NICHOS DONDE NUESTRO PAIS PUEDE SER COMPETITIVO DESDE UN PUNTO DE VISTA TECNOLOGICO, MEMRISTOR\GRAFENO\MEMORIA\NEUROMÓRFICO

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