CRECIMIENTO Y CARACTERIZACION DE PELICULAS DELGADAS MAGNETICAS PARA ELECTRONICA...
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Descripción del proyecto
ESTE PROYECTO DE INVESTIGACION ESTA DEDICADO A UN CAMPO MUY ACTIVO EN FISICA DE LA MATERIA CONDENSADA Y CIENCIA DE MATERIALES, EL DE LOS MATERIALES MAGNETICOS FUNCIONALES AVANZADOS CRECIDOS ARTIFICIALMENTE EN FORMA DE PELICULA DELGADA O EN ESTRUCTURAS MICRO Y NANOTALLADAS, DE ENTRE TODAS LAS FAMILIAS DE MATERIALES MAGNETICOS POSIBLES, NOSOTROS NOS CONCENTRAREMOS EN LOS MATERIALES MAGNETOELECTRONICOS DEBIDO A SUS PROMETEDORAS APLICACIONES TECNOLOGICAS EN ELECTRONICA DE ESPIN, CONCRETAMENTE:(I) PELICULAS DELGADAS GRANULARES METAL-AISLANTE, PROCEDEREMOS A LA PREPARACION POR DEPOSICION MEDIANTE LASER PULSADO (PLD) Y CARACTERIZACION DE MULTICAPAS METAL¿AISLANTE DISCONTINUAS DE TIPO FE/MGO CON MAGNETORRESISTENCIA (MR) LO MAS ELEVADA POSIBLE, PARA ALCANZAR ESTE OBJETIVO, ESTUDIAREMOS EL EFECTO DE LOS PARAMETROS DE CRECIMIENTO EN LA ESTRUCTURA, MICROESTRUCTURA Y EN LAS PROPIEDADES MAGNETICAS Y DE TRANSPORTE, OTROS SISTEMAS COMO EL CO/MGO Y EL COFE/MGO SERAN EXPLORADOS,(II) PELICULAS DELGADAS DE OXIDOS PARA DISPOSITIVOS DE FILTRADO DE ESPIN, LLEVAREMOS A CABO EL CRECIMIENTO EPITAXIAL Y LA CARACTERIZACION DE PELICULAS DELGADAS DE OXIDOS PARA DISPOSITIVOS DE FILTRADO DE ESPIN, EN PRIMER LUGAR, REALIZAREMOS UNA OPTIMIZACION SISTEMATICA DE LOS PARAMETROS PARA EL CRECIMIENTO EPITAXIAL DE LA FERRITA DE COBALTO COFE2O4 EN SUSTRATOS MONOCRISTALINOS DE MGO (001) Y SRTIO3 (001) POR PLD, POSTERIORMENTE SE CRECERAN Y CARACTERIZARAN COMPLETAMENTE HETEROESTRUCTURAS TIPO FILTRO DE ESPIN FE3O4/MGO/COFE2O4 Y FE/MGO/COFE2O4, EL OBJETIVO FINAL ES MICROFABRICAR UNIONES TUNEL MAGNETICAS PARA INVESTIGAR EL EFECTO DEL FILTRADO DE ESPIN DE MEDIDAS DE MR TUNEL,(III) PROPIEDADES DE TRANSPORTE ELECTRONICO EN MICRO Y NANOESTRUCTURAS, EN ESTA LINEA DE INVESTIGACION DEFINIREMOS DOS OBJETIVOS PRINCIPALES: (A) CRECEREMOS PELICULAS DELGADAS EPITAXIALES DE FE Y FE3O4 POR PLD Y PULVERIZACION CATODICA, DESPUES, ESTAS PELICULAS DELGADAS SERAN SOMETIDAS A MICRO Y NANOTALLADO USANDO TECNICAS LITOGRAFICAS PARA LA POSTERIOR INVESTIGACION DE SUS PROPIEDADES DE MAGNETOTRANSPORTE (MR Y EFECTO HALL), NUESTRO OBJETIVO ES DESCUBRIR EFECTOS FISICOS RELEVANTES RELACIONADOS CON EL TAMAÑO NANOMETRICO DEL SISTEMA (EFECTOS DE SUPERFICIE Y CUANTICOS) Y CONSEGUIR RESULTADOS SIGNIFICATIVOS DESDE EL PUNTO DE VISTA DE LAS APLICACIONES EN EL CAMPO DE LA DETECCION MAGNETORRESISTIVA Y HALL, (B) POR ULTIMO, CRECEREMOS NANODEPOSITOS CON BASE DE CO MEDIANTE DEPOSICION INDUCIDA POR ELECTRONES E IONES EN UN EQUIPO DE HAZ DUAL (¿DUAL BEAM¿), LOS NANODEPOSITOS SERAN CARACTERIZADOS MEDIANTE TECNICAS AVANZADAS DE MICROSCOPIA ELECTRONICA Y DE ANALISIS DE SUPERFICIE, NOS CENTRAREMOS EN LA NATURALEZA MAGNETICA DE ESTOS NANODEPOSITOS, ASI COMO SUS PROPIEDADES DE MAGNETOTRANSPORTE, SI SE TIENE EXITO, ESTE OBJETIVO TIENE IMPORTANTES APLICACIONES POTENCIALES EN LA INDUSTRIA DE SEMICONDUCTORES Y EN ELECTRONICA DE ESPIN, Materiales magnetoelectrónicos\películas delgadas\deposición por láser pulsado (PLD)\electrónica de espín
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