Cluster de ultra-alto vacío para la preparación integrada de capas finas de óxid...
Cluster de ultra-alto vacío para la preparación integrada de capas finas de óxidos complejos y metales
La investigación de óxidos complejos constituye uno de los principales objetivos del ICMAB, Para progresar en este objetivo consideramos prioritario desarrollar tres nuevas capacidades: i) fabricación en single process de hetero...
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Descripción del proyecto
La investigación de óxidos complejos constituye uno de los principales objetivos del ICMAB, Para progresar en este objetivo consideramos prioritario desarrollar tres nuevas capacidades: i) fabricación en single process de heteroestructuras integrando metales y óxidos; ii) fabricación de dispositivos micrométricos in-situ mediante conjuntos de máscaras y iii) caracterización de los materiales mediante herramientas espectroscópicas y estructurales avanzadas (luz sincrotrón), El equipo solicitado nos dotará de estas capacidades, Consta de tres cámaras de UHV: una cámara central de distribución, a la que se conecta otra de depósito de metales y otra de almacenamiento diseñada para acoplar una suitcase chamber, Las cámaras formarán un Cluster al que conectaremos dos equipos de pulsed laser deposition (PLD) ya en funcionamiento en el instituto, El Cluster se integrará en el Servicio de Capas Finas del ICMAB y permitirá la fabricación de heteroestructuras epitaxiales combinando óxidos (crecidos mediante PLD) y metales (crecidos mediante pulverización catódica), pudiendo almacenarse en UHV para su transporte en cámara portátil a otras instalaciones, El equipo permitirá dar el impulso necesario y definitivo a objetivos científicos que son ejes fundamentales en el ICMAB, En particular: i) intercaras y superficies de óxidos, ii) intercaras metal-óxido, y iii) dispositivos magnetoeléctricos y estructuras magnetofotónicas,
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