Innovating Works

CHALLENGE

Financiado
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3C SiC Hetero epitaxiALLy grown on silicon compliancE substrates and 3C SiC substrates for sustaiNable wide band Gap powEr devices Silicon carbide presents a high breakdown field (2-4 MV/cm) and a high energy band gap (2.3–3.2 eV), largely higher than for silicon. Within this frame, the cubic polytype of SiC (3C-SiC) is the only one that can be grown on a hos... ver más
30/06/2021
CNR
8M€
Presupuesto del proyecto: 8M€
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Líder del proyecto
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
TRL 4-5
Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.
Financiación concedida El organismo H2020 notifico la concesión del proyecto el día 2021-06-30
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