Innovating Works

PDC2023-145930-I00

Financiado
Microelectrónica, nanotecnología y fotónica
EL OBJETIVO DE LA PROPUESTA ES VALORIZAR UNA METODOLOGIA DE FABRICACION ORIGINADA EN EL PROYECTO STARSED QUE ES APLICABLE A LA FABRICACION EN GRANDES VOLUMENES DE COMPONENTES SEMICONDUCTORES PARA LAS FUTURAS GENERACIONES DE CIRCUI... EL OBJETIVO DE LA PROPUESTA ES VALORIZAR UNA METODOLOGIA DE FABRICACION ORIGINADA EN EL PROYECTO STARSED QUE ES APLICABLE A LA FABRICACION EN GRANDES VOLUMENES DE COMPONENTES SEMICONDUCTORES PARA LAS FUTURAS GENERACIONES DE CIRCUITOS INTEGRADOS Y PARA FACILITAR LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS CUANTICOS SEMICONDUCTORES PARA COMPUTACION CUANTICA. LOS ASPECTOS FUNDAMENTALES DE LA METODOLOGIA HAN SIDO RECIENTEMENTE PATENTADOS POR LOS COMPONENTES DEL EQUIPO DE INVESTIGACION, Y SE ESPERA QUE EL PROYECTO PERMITA CONSOLIDAR EL INTERES DE ALGUNA ENTIDAD, QUE FACILITE LA EXTENSION INTERNACIONAL DE LA PATENTE. LA ESTRATEGIA QUE PROPONEMOS PARA LA VALORIZACION ES DEMOSTRAR LA VIABILIDAD DE ESTABLECER UNA LINEA PILOTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES QUE INCORPOREN ESTA METODOLOGIA EN LA SALA BLANCA DEL IMB-CNM. LA DEMOSTRACION DE LA VIABILIDAD EN UNA LINEA PILOTO PERMITIRA ABORDAR SU EXPLOTACION A ESCALA LOCAL Y A ESCALA INDUSTRIAL INTERNACIONAL (GRANDES RTO O INDUSTRIAS EUROPEAS DE SEMICONDUCTORES) CON UNA BASE SOLIDA Y CON MENOR RIESGO. EL RESULTADO ESPECIFICO QUE PROPONEMOS VALORIZAR ES LA APLICACION DEL AUTOENSAMBLAJE DIRIGIDO DE COPOLIMEROS DE BLOQUE (DSA) PARA LA REALIZACION DE DISPOSITIVOS FUNCIONALES. DSA ES UN METODO DE LITOGRAFIA QUE PERMITE ESTRUCTURAR GRANDES AREAS CON UNA ALTA RESOLUCION (SUPERANDO A LA LITOGRAFIA DE HAZ DE ELECTRONES) SIENDO MUCHO MAS ASEQUIBLE QUE LA LITOGRAFIA DUV Y EUV. EL PROCESO DESARROLLADO EN STARSED DEMOSTRO SU VIABILIDAD PARA FABRICAR DISPOSITIVOS NANOMECANICOS. EL IMPACTO POTENCIAL DE APLICAR ESTE PROCESO PARA FABRICAR FUTURAS GENERACIONES DE CIRCUITOS INTEGRADOS Y DISPOSITIVOS CUANTICOS SEMICONDUCTORES ES ENORME, YA QUE ABORDARA UNO DE LOS PRINCIPALES DESAFIOS EN EL DESARROLLO DE UNA TECNOLOGIA ESCALABLE PARA CONTINUAR EL INCREMENTO DE LA DENSIDAD EN CIRCUITOS INTEGRADOS Y LA INTERCONEXION DE CUBITS: LA DIFICULTAD PARA DEFINIR LAS PARTES CRITICAS DEL DISPOSITIVO DEBIDO A SU BAJA DIMENSIONALIDAD Y EL REQUISITO DE BAJA VARIABILIDAD. LA VIABILIDAD DEL ESTABLECIMIENTO DE LA LINEA PILOTO SE EVALUARA MEDIANTE LA REALIZACION DE UN DEMOSTRADOR DE PRUEBA DE CONCEPTO (DEMOSTRACION TECNICA), MEDIANTE LA GENERACION DE DOS HOJAS DE RUTA PARA SU IMPLEMENTACION EN UNA INSTALACION DE FABRICACION Y MEDIANTE EL ESTABLECIMIENTO DE ALIANZAS ESTRATEGICAS CON ENTIDADES EN ENTORNOS INDUSTRIALES RELEVANTES. NANOELECTRONICA\COPOLIMEROS DE BLOQUE\AUTOENSAMBLAJE DIRIGIDO\DISPOSITIVOS DE UN SOLO ELECTRON\QUBITS SEMICONDUCTORES\TECNOLOGIAS CUANTICAS\NANOFABRICACION ver más
01/01/2023
CSIC
178K€
Perfil tecnológico estimado

Línea de financiación: concedida

El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2023-01-01
Presupuesto El presupuesto total del proyecto asciende a 178K€
Líder del proyecto
AGENCIA ESTATAL CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGA... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
Perfil tecnológico TRL 2-3 552M