Sistema de litografía por haz de electrones de alta resolución
Para la fabricación de cualquier dispositivo en el que las dimensiones críticas estén por debajo de la resolución del sistema de litografía óptica del que actualmente se dispone en el ICFO (alrededor de 1µm), la litografía por haz...
Para la fabricación de cualquier dispositivo en el que las dimensiones críticas estén por debajo de la resolución del sistema de litografía óptica del que actualmente se dispone en el ICFO (alrededor de 1µm), la litografía por haz de electrones es necesaria, Los investigadores del ICFO están llevando a cabo proyectos, financiados tanto con fondos europeos como nacionales, en campos tan diversos como son la fabricación de células solares nanoestructuradas, la investigación de fenómenos básicos en fotónica molecular, el estudio y optimización de las propiedades ópticas del grafeno, o la fabricación de dispositivos plasmónicos para la detección precoz del cáncer, En todos estos proyectos, la fabricación de dispositivos con dimensiones críticas por debajo de los 100nm con un gran nivel de reproducibilidad es un requerimiento necesario, ya que las estructuras nanofotónicas juegan un papel fundamental en la consecución de los objetivos de los proyectos, Para garantizar el éxito no es suficiente con poder fabricar dispositivos con dimensiones nanométricas, sino que es necesario también poder hacerlo con un excelente grado de reproducibilidad, para poder así garantizar la fiabilidad y repetitividad de los experimentos y la credibilidad de los prototipos fabricados, Este equipo permitirá al ICFO disponer de la capacidad de definición de estructuras del orden de la decena de nanómetros, en línea con los mejores laboratorios a nivel mundial,ver más
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