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Real time nano CHAracterization reLatEd techNloGiEeS

A cost-efficient production of reliable, innovative materials and devices like advanced electronics products (<65 nm strained channel transistors, CMOS image sensors) requires nanoscale real-time in-line control, nowadays not avai... ver más

31/08/2024

UNIROMA1

5M€

Presupuesto del proyecto: 5M€

Líder del proyecto

UNIVERSITA DEGLI STUDI DI ROMA LA SAPIENZA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Ver 18 Participantes

Financiación concedida El organismo H2020 notifico la concesión del proyecto el día 2024-08-31

DT-NMBP-08-2019: Real-time nano-characterisation tec...

I+D

Cerrada hace 6 años

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18 Participantes

UNIROMA1

561.56K€ | Lider

LABORATORIOS INIBSA

317.74K€ | Participante

N.D. | Participante

CNR

460.38K€ | Participante

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Duración del proyecto: 53 meses Fecha Inicio: 2020-03-12
Fecha Fin: 2024-08-31

Líder del proyecto

UNIVERSITA DEGLI STUDI DI ROMA LA SAPIENZA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5

Presupuesto del proyecto 5M€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto A cost-efficient production of reliable, innovative materials and devices like advanced electronics products (<65 nm strained channel transistors, CMOS image sensors) requires nanoscale real-time in-line control, nowadays not available, during manufacturing. State-of-the-art techniques capable to map physical observables at the nanoscale compatible with in-line operations, like Raman, InfraRed (IR), Photoluminescence (PL) spectroscopy, do not have typically enough resolution for the detailed characterization of nano-scaled devices. Signal amplification by localized plasmon resonance at a sharp tip can give the opportunity of improving both the spatial resolution and the signal/noise ratio. CHALLENGES main objective is to develop multipurpose nano-optical techniques and metrological protocols for real-time characterization, using plasmonic enhanced Raman, IR and PL signals, capable to enable an increase of speed, sensitivity, spectral range with full cleanroom compatibility within different production environments, to improve devices performance, quality and reliability. CHALLENGES will focus on development and demonstration of such technology on three relevant application contexts: Semiconductor Industry, Si Photovoltaics and 2D Materials. Overall, the envisaged results are expected to be applicable to many other industrial fields in which the materials control at the nanoscale is required, spanning from those others electronics-related (DRAM, non-volatile memory, MEMS) to those one materials science (additive manufacturing, nanocoatings) and life sciences (implants, softmatter apps) related. CHALLENGES is coordinated by a large silicon foundry company and it is strongly driven by industrial and applicative needs. The Consortium includes renowned EU research labs with top-class facilities and capacities, industry leading enterprises and innovative SMEs with a worldwide collaboration network that will boost the international dimension and impact of the project.

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