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Plasmon Enhanced Photocatalytic Nano Lithography

The emergence of nanoscience and nanotechnology, with envisioned applications spanning from nano-optics and nano-photonics, to plasmonics and nano-electronics, depends on the capability to fabricate a variety of nanometre-scale st... ver más

30/06/2026

TECHNION ISRAEL I...

2M€

Presupuesto del proyecto: 2M€

Líder del proyecto

TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Ver 2 Participantes

Financiación concedida El organismo H2020 notifico la concesión del proyecto el día 2019-09-26

ERC-2019-STG: ERC Starting Grant

I+D

Cerrada hace 6 años

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Información adicional privada

No hay información privada compartida para este proyecto. Habla con el coordinador.

2 Participantes

TECHNION ISRAEL INSTITUTE O...

1.50M€ | Lider

FUNDOSA TECHNOSITE SA

10.44M€ | Participante

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ACTIVENP Active and low loss nano photonics ActiveNP 1M€ Cerrado

Duración del proyecto: 81 meses Fecha Inicio: 2019-09-26
Fecha Fin: 2026-06-30

Líder del proyecto

TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

TRL 4-5

Presupuesto del proyecto 2M€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto The emergence of nanoscience and nanotechnology, with envisioned applications spanning from nano-optics and nano-photonics, to plasmonics and nano-electronics, depends on the capability to fabricate a variety of nanometre-scale structures. Despite the impressive development in these fields, breakthroughs remain in the laboratory, largely due to technological limitations in the ability to manufacture complex and accurate nanometer-resolved surface patterns, with satisfying resolution and on large area. The development of a new fabrication methodology is thus required. We propose to develop and demonstrate a novel technique for nanoscale photolithography that would bring 21st century nanotechnology breakthroughs out of the lab and into the public sphere. This technique is based on a chemical mechanism recently discovered in my lab. We revealed that multi-electron photocatalytic reactions could be directed to progress exclusively under a plasmonic field, in a controlled and highly localized manner. In this proposal we describe how this phenomenon may be leveraged for pattering, and high-resolution nano lithography. The project is divided into 3 stages: 1. Fundamentals of the underlying physical phenomena 2. Probe enhanced photocatalytic writing 3. Photolithography via plasmon enhanced photocatalytic mask At the end of the 5-year project we expect to be at a position to demonstrate our platform for lithographic writing of an interesting nano pattern of high quality, and establish the potential of this methodology as a powerful instrument in the nanotechnology researcher’s toolbox. I strongly believe that successful implementation of this project would fundamentally change the way in which nanotechnology affects modern life.

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