Innovating Works

HaloFreeEtch

Financiado
Cerrado
Novel approaches for halogen-free and sustainable etching of Silicon and Glass
Current industrial plasma etching processes are not sustainable because they make use of halogens. HaloFreeEtch will take a fundamental, interdisciplinary and systematic approach to find new halogen-free etching processes.HaloFree... ver más
31/08/2028
TECHNISCHE UNIVERS...
4M€
Presupuesto del proyecto: 4M€
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Líder del proyecto
TECHNISCHE UNIVERSITAET CHEMNITZ No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
TRL 4-5
Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.
Financiación concedida El organismo HORIZON EUROPE notifico la concesión del proyecto el día 2024-09-01
HORIZON-EIC-2023-PATHFINDERCHALLENGES-01-05: EIC Pathfinder Challenge: In-space... Scope:Background and scope
Cerrada
0% 100%

Características del participante

Este proyecto no cuenta con búsquedas de partenariado abiertas en este momento.

Información adicional privada

No hay información privada compartida para este proyecto. Habla con el coordinador.