Hola,
¿eres nuevo aquí?

Regístrate gratis y conecta tu empresa con financiación pública, partners y proyectos.

Tengo cuenta

Regístrate

Ver video

HaloFreeEtch

Financiado

Cerrado

Novel approaches for halogen free and sustainable etching of Silicon and Glass

Current industrial plasma etching processes are not sustainable because they make use of halogens. HaloFreeEtch will take a fundamental, interdisciplinary and systematic approach to find new halogen-free etching processes. HaloFre... ver más

31/08/2028

Líder desconocido

4M€

Presupuesto del proyecto: 4M€

Líder del proyecto Líder desconocido

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Ver 7 Participantes

Financiación concedida El organismo HORIZON EUROPE notifico la concesión del proyecto el día 2024-06-10

HORIZON-EIC-2023-PATHFINDERCHALLENGES-01-03: EIC Pathfinder Challenge: Precision... ExpectedOutcome:na

I+D

Cerrada

0% 100% 100%

Características del participante

Este proyecto no cuenta con búsquedas de partenariado abiertas en este momento.

Información adicional privada

No hay información privada compartida para este proyecto. Habla con el coordinador.

7 Participantes

PLASMASOLVE SRO

WARRANT HUB SPA

LIONIX INTERNATIONAL BV

Conecta tu I+D

¿Tienes un proyecto y buscas un partner? Gracias a nuestro motor inteligente podemos recomendarte los mejores socios y ponerte en contacto con ellos. Te lo explicamos en este video

Duración del proyecto: 50 meses Fecha Inicio: 2024-06-10
Fecha Fin: 2028-08-31

Líder del proyecto Líder desconocido

Presupuesto del proyecto 4M€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto Current industrial plasma etching processes are not sustainable because they make use of halogens. HaloFreeEtch will take a fundamental, interdisciplinary and systematic approach to find new halogen-free etching processes. HaloFreeEtch aims to identify new, halogen-free and sustainable etching processes for sustainable semiconductor manufacturing, applied to deep etching of silicon and silicon oxide. The novel etching processes we aim for shall be clean (in terms of harmful chemicals), efficient (in terms of processing speed and manufacturability) and precise (in terms of the desired shapes). HaloFreeEtch will provide a novel model- and data-based methodology for sustainability and life cycle analysis of plasma-etching to quantify the carbon-footprint of all novel etching processes. HaloFreeEtch combines lab-scale research on three innovative technological routes with computational screening of novel and promising etchants, a comprehensive multi-scale modeling approach to predict potential working points and a model-based life cycle and sustainability analysis. Hydrogen (H)-based, metal catalyst-assisted as well as approaches inspired by atomic layer etching (ALE) will be studied. State-of-the-art plasma etching machines will be modified and combined with innovative features and advanced analytics. Besides getting rid of halogens, we will address more dimensions of sustainability such as the high energy consumption of the established plasma etching processes. HaloFreeEtch will implement a novel, sustainability-driven process development scheme which might serve as a blueprint for sustainability-driven process development in electronics and many other industries. The project will focus on the semiconductor industry, where plasma etching is a standard industrial process used for many applications. Taking the lead in the development of innovative halogen-free processes will strengthen the long-term position of the EU in the global chips industry.

Conecta tu I+D

Entra hoy

¿Olvidé mi contraseña?

Financiación

Empresas

CTIs/Universidades

Proyectos

Investigadores