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MAT2008-06794-C03-02

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MODELIZACION Y OPTIMIZACION DE GUIAS DE ONDA PARA DISPOSITIVOS EN MATERIALES OPT...

MODELIZACION Y OPTIMIZACION DE GUIAS DE ONDA PARA DISPOSITIVOS EN MATERIALES OPTICOS NO LINEALES ESTE PROYECTO PROPONE, DE UN LADO, INVESTIGAR EN PROFUNDIDAD EL ORIGEN DEL DAÑO ELECTRONICO CAUSADO EN MATERIALES POR LA ELEVADA EXCITACION ELECTRONICA GENERADA AL IRRADIAR CON IONES PESADOS (A > 12) DE ALTA ENERGIA (1-100 MEV), D... ver más

01/01/2008

UPM

15K€

Presupuesto del proyecto: 15K€

Líder del proyecto

UNIVERSIDAD POLITÉCNICA DE MADRID No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 3947

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2008-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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UPM

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Líder del proyecto

UNIVERSIDAD POLITÉCNICA DE MADRID No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 3947

Presupuesto del proyecto 15K€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto ESTE PROYECTO PROPONE, DE UN LADO, INVESTIGAR EN PROFUNDIDAD EL ORIGEN DEL DAÑO ELECTRONICO CAUSADO EN MATERIALES POR LA ELEVADA EXCITACION ELECTRONICA GENERADA AL IRRADIAR CON IONES PESADOS (A > 12) DE ALTA ENERGIA (1-100 MEV), DE OTRO LADO, DEMOSTRAR LA UTILIDAD PRACTICA DE LAS ESTRUCTURAS CREADAS EN FOTONICA GUIADA (ESPECIALMENTE CON LINBO3), SE APOYA EN LOS POSITIVOS RESULTADOS YA OBTENIDOS EN UN PROYECTO TODAVIA EN CURSO (2006-2008), DONDE SE HA DEMOSTRADO POR PRIMERA VEZ QUE, MEDIANTE LA SELECCION DEL TIPO DE ION, DE SU MASA, ENERGIA Y FLUENCIA SE PUEDE GENERAR DAÑO Y PROCESAR CRISTALES CON UN GRADO DE PRECISION, FLEXIBILIDAD Y EFICIENCIA NO POSIBLES HASTA AHORA CON OTRAS TECNICAS, INCLUYENDO TANTO MICRO-PROCESADO COMO NANO-PROCESADO, LAS GUIAS OPTICAS PRODUCIDAS CON ESTE METODO SON PARA ESTE PROYECTO UN FIN EN SI MISMO, A OPTIMIZAR PARA LAS APLICACIONES, Y UN MEDIO QUE PERMITE EL ESTUDIO PRECISO DE VARIOS DE LOS ASPECTOS FUNDAMENTALES DE LA GENERACION Y ACUMULACION DEL DAÑO ELECTRONICO, SE INVESTIGARAN LOS NUEVOS PROBLEMAS FUNDAMENTALES, ABIERTOS POR EL PROYECTO ANTERIOR, RELACIONADOS CON LOS DEFECTOS CREADOS DURANTE LA IRRADIACION (DETERMINACION DE UMBRALES DE AMORFIZACION, EFECTO DE LA VELOCIDAD DEL ION,,,) Y SE REFINARA EL MODELO DE DAÑO QUE HEMOS ESTABLECIDO PRELIMINARMENTE, SIMULTANEAMENTE, SE ABORDARA LA MEJORA DE LA TECNICA DE PROCESADO (CARACTERISTICAS SUBSTRATO/PARAMETROS DE IRRADIACION) PARA SU USO EN DISPOSITIVOS GUIADOS, CON ESPECIAL ATENCION A LA TOLERANCIA A POTENCIAS LUMINOSAS ELEVADAS, A SABER: I) AUMENTO DEL TAMAÑO Y HOMOGENEIDAD DE LAS GUIAS (HASTA ~30 MM), II) REDUCCION DE LAS PERDIDAS DE PROPAGACION (POR DEBAJO DE 1 DB/CM) Y AUMENTO DE LOS COEFICIENTES OPTICOS NO LINEALES HASTA VALORES PROXIMOS A LOS DEL SUBSTRATO, III) PREPARACION DE GUIAS ACANALADAS MEDIANTE OPACIDAD DEL HAZ O CON GEOMETRIAS DE IRRADIACION ESPECIALES, Y IV), DE MODO ESPECIAL, AUMENTO DEL UMBRAL DE DAÑO OPTICO HASTA VALORES UTILES PARA GENERACION DE SEGUNDO ARMONICO (~1 MW/CM2), FINALMENTE SE EXPLOTARAN LAS APLICACIONES ABIERTAS POR LOS NANOPOROS PARA SENSORES GUIA-ONDA Y SE EXTENDERA EL METODO A OTROS MATERIALES NO-LINEALES COMO EL BBO Y EL TI:ZAFIRO DADO SU GRAN INTERES TECNOLOGICO, Modelizacion\Óptica no lineal\BPM\Daño óptico\Generación de segundo armónico\Dispositivos fotorrefractivos\Guías de onda ópticas\Algoritmos genéticos.

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