METROLOGIA OPTICA ACTIVA PARA APLICACIONES EN LA ESCALA NANOMETRICA
LA OPTICA ACTIVA Y ADAPTATIVA HA DEMOSTRADO YA SUS CAPACIDADES EN EL AMBITO DE LA METROLOGIA OPTICA, COMO HERRAMIENTA COMPLEMENTARIA QUE PERMITE DESARROLLAR APLICACIONES Y PRODUCTOS NOVEDOSOS, AL PERMITIR UNA FLEXIBILIDAD IMPOSIBL...
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Descripción del proyecto
LA OPTICA ACTIVA Y ADAPTATIVA HA DEMOSTRADO YA SUS CAPACIDADES EN EL AMBITO DE LA METROLOGIA OPTICA, COMO HERRAMIENTA COMPLEMENTARIA QUE PERMITE DESARROLLAR APLICACIONES Y PRODUCTOS NOVEDOSOS, AL PERMITIR UNA FLEXIBILIDAD IMPOSIBLE CON SISTEMAS OPTICOS PASIVOS, EN EL PRESENTE PROYECTO SE PLANTEA AMPLIAR LA LINEA DE TRABAJO YA EXISTENTE EN ESTE SENTIDO EN EL CD6 DE LA UPC PARA PROFUNDIZAR EN EL DESARROLLO DE NUEVAS APLICACIONES METROLOGICAS, SI EN UN PROYECTO ANTERIOR DEL PLAN NACIONAL LA COMBINACION DE METROLOGIA Y OPTICA ACTIVA SE APLICO CON EXITO AL DESARROLLO DE NUEVAS APLICACIONES RELACIONADAS CON EL SENSOR SHACK-HARTMANN Y LA PERFILOMETRIA CONFOCAL, EL PRESENTE PROYECTO SE CENTRA EN APLICACIONES DE PERFILOMETRIA INTERFEROMETRICA,PARA ELLO, SE REALIZARA UN ANALISIS DE LAS TECNICAS DE CONTROL DE LOS ELEMENTOS ACTIVOS PARA OPTIMIZAR SU RENDIMIENTO EN APLICACIONES DE ESCALA NANOMETRICA, SE MODELIZARA EN DETALLE EL SISTEMA COMPLETO DE MEDIDA, INCLUYENDO AJUSTES DEL FRENTE DE ONDA MEDIDO Y DEL ELEMENTO COMPENSADOR BASADOS EN B-SPLINES, MAS ALLA DE LOS AJUSTES NORMALMENTE UTILIZADOS A BASES DE ZERNIKE, SE ANALIZARA LA IMPLEMENTACION DE TECNICAS DE CONTROL LOCAL BASADAS EN ESTOS MODELOS QUE MEJOREN LA PRECISION Y LA VELOCIDAD DE CONVERGENCIA DE LOS BUCLES DE CONTROL CLASICOS, CERRADOS UTILIZANDO CONTROL MODAL, SE ENSAYARA EL USO PARA ESTAS APLICACIONES DE UN MODULADOR DE FASE PROGRAMABLE BASADO EN TECNOLOGIA LCOS Y DE ESPEJOS DEFORMABLES DE MEMBRANA CONTINUA, ESTE CONJUNTO DE ANALISIS HA DE SERVIR PARA DETERMINAR LA CONFIGURACION EXPERIMENTAL MAS ADECUADA Y LA MANERA OPTIMA DE CERRAR EL BUCLE DE CONTROL PARA APLICACIONES DE ESCALA NANOMETRICA, ESTA PARTE DEL PROYECTO SE DESARROLLA EN COLABORACION CON EL GRUPO DEL PROFESOR CHRIS DAINTY EN LA NATIONAL UNIVERSITY OF IRELAND AT GALWAY,ESTE PROCESO DE MODELIZACION Y PRUEBA DE ELEMENTOS ACTIVOS SE APLICARA AL DESARROLLO DE APLICACIONES DE PERFILOMETRIA INTERFEROMETRICA DE DISPOSITIVOS RECUBIERTOS O ENCAPSULADOS Y DE SUPERFICIES INMERSAS EN ZONAS PROFUNDAS DE MEDIOS REFRACTIVOS, SE TRATA DE UNA APLICACION DE GRAN INTERES Y ACTUALIDAD PARA LA INDUSTRIA MICROELECTRONICA O PARA EL CONTROL DE CALIDAD DE DE DISCOS OPTICOS CON GRABACION DE DATOS A VARIOS NIVELES O DE SISTEMAS EMBEBIDOS (EMBEDDED SYSTEMS), PARA ELLO SE CONSTRUIRA Y PONDRA EN FUNCIONAMIENTO UN SISTEMA DE PERFILOMETRIA INTERFEROMETRICA BASADO EN UN OBJETIVO INTERFERENCIAL DE CONFIGURACION TIPO LINNIK CON AUMENTOS 50X Y 100X, QUE INCLUIRA UN ELEMENTO OPTICO ACTIVO QUE PERMITA LA COMPENSACION DE LAS ABERRACIONES INDUCIDAS POR LOS MEDIOS REFRACTIVOS ATRAVESADOS, METROLOGIA OPTICA\INTERFEROMETRIA\MICROSCOPIA INTERFEROMETRICA\PERFILOMETRIA\OPTICA ACTIVA\OPTICA ADAPTATIVA\CONTROL MODAL\CONTROL LOCAL
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