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MAT2012-37276-C03-03

Financiado

MATERIALES HIBRIDOS BASADOS EN GRAFENO PARA APLICACIONES OPTOELECTRONICAS: OPTIM...

MATERIALES HIBRIDOS BASADOS EN GRAFENO PARA APLICACIONES OPTOELECTRONICAS: OPTIMIZACION DE SUS PROPIEDADES Y PROCESADO DE DISPOSITIVOS DE BAJO COSTE EL ALTO INTERES ESTRATEGICO DE LOS MATERIALES Y TECNOLOGIAS PARA UN DESARROLLO SOSTENIBLE MOTIVAN QUE ESTE PROYECTO PLANTEE DESARROLLAR MATERIALES HIBRIDOS BUSCANDO LA SIMBIOSIS OPTIMA DE LAS PROPIEDADES DE SEMICONDUCTORES ORGANI... ver más

01/01/2012

URJC

47K€

Presupuesto del proyecto: 47K€

Líder del proyecto

Universidad Rey Juan Carlos No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 1102

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2012-01-01

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Participantes

URJC

Lider

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Líder del proyecto

Universidad Rey Juan Carlos

Total investigadores 1102

Presupuesto del proyecto 47K€

Descripción del proyecto EL ALTO INTERES ESTRATEGICO DE LOS MATERIALES Y TECNOLOGIAS PARA UN DESARROLLO SOSTENIBLE MOTIVAN QUE ESTE PROYECTO PLANTEE DESARROLLAR MATERIALES HIBRIDOS BUSCANDO LA SIMBIOSIS OPTIMA DE LAS PROPIEDADES DE SEMICONDUCTORES ORGANICOS, NANOPARTICULAS INORGANICAS Y GRAFENO PARA OBTENER NUEVAS O MEJORES FUNCIONALIDADES DE LAS PELICULAS HIBRIDAS NANOESTRUCTURADAS RESULTANTES PARA SU APLICACION COMO ELECTRODOS TRANSPARENTES NANOESTRUCTURADOS Y CAPAS ACTIVAS EN CELULAS FOTOVOLTAICAS (PV), DISPOSITIVOS ELECTROLUMINISCENTES (LED), FOTO-DETECTORES O SENSORES. AUNQUE CADA UNO DE ESTOS DISPOSITIVOS TIENE UNOS REQUISITOS Y PARTICULARIDADES MUY ESPECIFICOS, TODOS ELLOS COMPARTEN MATERIALES CON CARACTERISTICAS COMUNES, EN CUANTO A ELECTRODOS TRANSPARENTES Y CAPAS ACTIVAS ACOPLADOS DE FORMA EFICIENTE, CON PROCESOS ESCALABLES A NIVEL INDUSTRIAL, COSTES REDUCIDOS Y QUE ADEMAS PUEDAN SER DEPOSITADOS EN GRANDES AREAS Y EN SUSTRATOS FLEXIBLES. POR OTRA PARTE SE PLANTEA DESARROLLAR Y OPTIMIZAR TECNICAS PARA LA MICRO/NANOESTRUCTURACION DE LAMINAS DELGADAS MEDIANTE MICRO-ELECTROEROSION POR ARCO Y NANOLITOGRAFIA POR IMPRESION FOTOLITOGRAFICA. ESTAS SON TECNOLOGIAS LITOGRAFICAS DE BAJO COSTE ESCALABLES A GRANDES AREAS QUE PERMITEN FABRICAR Y DESARROLLAR DISPOSITIVOS OPTOELECTRONICOS CON ALTO VALOR AÑADIDO. LA PROPUESTA REQUIERE SER AFRONTADA POR UN EQUIPO MULTIDISCIPLINAR QUE PERMITA ABORDAR DESDE LA PREPARACION Y CARACTERIZACION DE LOS NUEVOS MATERIALES PROPUESTOS, EL ESTUDIO Y OPTIMIZACION DE LA TECNOLOGIA, COMO LA FABRICACION Y OPTIMIZACION DE LOS DISPOSITIVOS.

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