Descripción del proyecto
El Instituto de Tecnología Nanofotónica de la Universitat Politècnica de València posee una dilatada experiencia en el desarrollo de nanotecnologías y dispositivos opto-electrónicos, plasmónicos y fotónicos basados en Silicio, Motivados por el interés que el grafeno ha despertado en numerosos campos tecnológicos como la nanoelectrónica, nanofotónica, computación, sensores o fotovoltaica, debido a sus excelentes propiedades (ópticas, eléctricas, mecánicas, térmicas, químicas
), el Instituto de Tecnología Nanofotónica se ha marcado como objetivo prioritario la integración de grafeno en nuevos dispositivos que le permitan seguir destacando y liderando campos como la Fotónica en Silicio y la Plasmónica a nivel europeo,Para lograr este objetivo, el Instituto contará en breve con un Reactor CVD específico para la síntesis y deposición de grafeno, que se ubicará en la Sala Limpia del mismo, una de las Salas Limpias con mayores capacidades de procesado de semiconductores de toda España, Desgraciadamente, el Instituto no cuenta con ningún equipo de caracterización de grafeno ni de los dispositivos nanofabricados con éste,Por esta razón el Laboratorio Integrado de Caracterización solicitado es imprescindible para la rápida caracterización in situ de las propiedades fundamentales del grafeno y los dispositivos obtenidos a partir de éste, cubriendo todo el rango de interés para el Instituto, El laboratorio estará compuesto por equipos de caracterización fundamental y de dispositivos,