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UPOV13-3E-1811

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LABORATORIO INTEGRADO DE CARACTERIZACIÓN DE MATERIALES Y DISPOSITIVOS BASADOS EN...

LABORATORIO INTEGRADO DE CARACTERIZACIÓN DE MATERIALES Y DISPOSITIVOS BASADOS EN GRAFENO El Instituto de Tecnología Nanofotónica de la Universitat Politècnica de València posee una dilatada experiencia en el desarrollo de nanotecnologías y dispositivos opto-electrónicos, plasmónicos y fotónicos basados en Silicio, Mot... ver más

01/01/2013

UPV

595K€

Presupuesto del proyecto: 595K€

Líder del proyecto

UNIVERSITAT POLITÈCNICA DE VALÈNCIA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 692

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2013-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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Este proyecto no cuenta con búsquedas de partenariado abiertas en este momento.

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Líder del proyecto

UNIVERSITAT POLITÈCNICA DE VALÈNCIA No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Total investigadores 692

Presupuesto del proyecto 595K€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto El Instituto de Tecnología Nanofotónica de la Universitat Politècnica de València posee una dilatada experiencia en el desarrollo de nanotecnologías y dispositivos opto-electrónicos, plasmónicos y fotónicos basados en Silicio, Motivados por el interés que el grafeno ha despertado en numerosos campos tecnológicos como la nanoelectrónica, nanofotónica, computación, sensores o fotovoltaica, debido a sus excelentes propiedades (ópticas, eléctricas, mecánicas, térmicas, químicas), el Instituto de Tecnología Nanofotónica se ha marcado como objetivo prioritario la integración de grafeno en nuevos dispositivos que le permitan seguir destacando y liderando campos como la Fotónica en Silicio y la Plasmónica a nivel europeo,Para lograr este objetivo, el Instituto contará en breve con un Reactor CVD específico para la síntesis y deposición de grafeno, que se ubicará en la Sala Limpia del mismo, una de las Salas Limpias con mayores capacidades de procesado de semiconductores de toda España, Desgraciadamente, el Instituto no cuenta con ningún equipo de caracterización de grafeno ni de los dispositivos nanofabricados con éste,Por esta razón el Laboratorio Integrado de Caracterización solicitado es imprescindible para la rápida caracterización in situ de las propiedades fundamentales del grafeno y los dispositivos obtenidos a partir de éste, cubriendo todo el rango de interés para el Instituto, El laboratorio estará compuesto por equipos de caracterización fundamental y de dispositivos,

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