Laboratorio de grafeno y materiales bidimensionales
El equipamiento que se pretende adquirir con este proyecto tiene el objetivo de completar la infraestructura ya existente en la Laboratorio de Nanoelectrónica de la Universidad de Granada para la obtención de láminas delgadas de s...
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UNIVERSIDAD DE GRANADA
No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
Total investigadores5513
Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2013-01-01
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Información proyecto UNGR13-1E-1854
Líder del proyecto
UNIVERSIDAD DE GRANADA
No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.
Total investigadores5513
Presupuesto del proyecto
146K€
Fecha límite de participación
Sin fecha límite de participación.
Descripción del proyecto
El equipamiento que se pretende adquirir con este proyecto tiene el objetivo de completar la infraestructura ya existente en la Laboratorio de Nanoelectrónica de la Universidad de Granada para la obtención de láminas delgadas de semiconductores bidimensionales (inicialmente grafeno) con una triple finalidad: Desarrollo de nuevas técnicas de caracterización eléctrica y estructural de materiales semiconductores bidimensionales, Desarrollo de biosensores basados en grafeno y silicio, Desarrollo de células solares basadas en grafeno,Este equipamiento a adquirir se integraría en el Laboratorio de Nanoelectrónica del Centro de Investigación en Tecnologías de la Información y de las Comunicaciones de la UGR, que ya cuenta, junto con el Centro de Instrumentación, con toda la infraestructura necesaria para la caracterización estructural y eléctrica de materiales, estructuras y dispositivos semiconductores en general, y semiconductores bidimensionales en particular, y cuya única carencia es la posibilidad de obtener sus propias muestras de grafeno, sobre sustratos específicos para poder optimizar la investigación, El nuevo equipamiento a adquirir consiste en:1, Sistema CVD (Chemical vapor desposition) para la deposición de películas de grafeno sobre láminas de cobre y níquel,2, Sistema de grabado y limpieza por plasma,El resto de equipamiento necesario para la transferencia del grafeno crecido sobre los sustratos adecuados ya se encuentra disponible,