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RTC-2015-3662-3

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Fabricación de grafeno extenso mediante estrategias bottom-up (TESELA)

El grafeno es un material constituido por una única capa de átomos de carbono, Estas características hacen del grafeno un material único por sus propiedades: conductor, flexible, fuerte, transparente y relativamente barato por la... ver más

01/01/2015

BIHURCRYSTAL

170K€

Presupuesto del proyecto: 170K€

Líder del proyecto

BIHURCRYSTAL El diseño, desarrollo y comercialización de productos y servicios vinculados a las denominadas tecnologías de vacío y ultra-alto vacío,

TRL 4-5 | 243K€

Fecha límite participación Sin fecha límite de participación.

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2015-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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Líder del proyecto

BIHURCRYSTAL El diseño, desarrollo y comercialización de productos y servicios vinculados a las denominadas tecnologías de vacío y ultra-alto vacío,

TRL 4-5 | 243K€

Presupuesto del proyecto 170K€

Fecha límite de participación Sin fecha límite de participación.

Descripción del proyecto El grafeno es un material constituido por una única capa de átomos de carbono, Estas características hacen del grafeno un material único por sus propiedades: conductor, flexible, fuerte, transparente y relativamente barato por la sencillez de algunos de los métodos de obtención y por la abundancia de su constituyente, el carbono, Las aplicaciones tecnológicas de este material son innumerables, por ejemplo en dispositivos electrónicos donde puede actuar como capa conductora, en dispositivos optoelectrónicos donde sustituye a otros conductores transparentes como el ITO, en sensores mecánicos por sus características de conductor flexible, en biosensores por las posibilidades de funcionalizarlo, etc,La obtención de grafeno a partir de la exfoliación mecánica del grafito, método desarrollado por Geim y Novoselov por el que obtuvieron el premio Nobel de Física en 2011, ha abierto la necesidad de investigar este material de forma extensa, El número de artículos de investigación y de patentes relacionadas con el grafeno ha crecido de manera casi exponencial, constituyendo uno de los hitos más reseñables de la ciencia moderna,En la actualidad, el grafeno se puede obtener por otros métodos, destacando la preparación a partir de métodos químicos en disolución de óxido de grafito, o mediante descomposición de hidrocarburos en superficies de metales aprovechando las propiedades catalíticas de éstos, La formación de capas de grafeno sobre substratos aislantes y semiconductores de forma directa y sin necesidad de transferirlos desde otros substratos es un punto crucial para poder hacer realidad la tecnología basada en este material,En el presente proyecto proponemos la formación de grafeno a partir de moléculas precursoras, en particular los denominados haluros de arilo, Estas moléculas son derivados halogenados de los hidrocarburos aromáticos y a diferencia de estos no requieren elevadas temperaturas para romper sus radicales y dar lugar a anillos bencénicos reactivos que pueden dar lugar a la formación de grafeno, Este hecho hace que las moléculas precursoras, o bien pierdan los átomos halógenos en el propio evaporador de moléculas, o lo hagan al llegar a la superficie de la muestra donde son evaporados, En ambos casos el resultado es la presencia de anillos de carbono reactivos sobre la muestra, y con ello, por combinación de estos, se espera que se favorezca y produzca la formación de grafeno sobre la superficie,Lo que haría a este método de formación de grafeno de especial interés es que al no ser necesarias elevadas temperaturas ni propiedades catalíticas del sustrato, este proceso no quedaría limitado a las superficies de metales catalíticos, De esta manera, podrían emplearse como potenciales substratos donde formar el grafeno materiales aislantes y semiconductores, es decir, superficies donde hasta la fecha sólo se ha podido lograr obtener grafeno por transferencia desde otros substratos, ,,El objetivo del proyecto es por lo tanto, la formación directa de grafeno a partir de la evaporación de moléculas halogenadas sobre substratos aislantes o semiconductores,Los hitos que se plantean son:1,El diseño y fabricación de un sistema experimental para realizar adecuadamente los experimentos propuestos en el proyecto,2,La formación de grafeno sobre superficies aislantes por evaporación de moléculas precursoras halogenadas,3,El escalado del proceso científico a un proceso industrial tecnológico,El consorcio del proyecto lo constituyen la empresa BIHURCRYSTAL, con sede en San Sebastián, y el grupo de investigación ESISNA, del Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) y perteneciente al CSIC,El proyecto se va a desarrollar en tres anualidades repartidas entre 2015 y 2018, El comienzo del proyecto se ha fijado para el 01/07/2015, hasta esa fecha llevaremos a cabo el proceso de selección del Investigador Doctor que llevará la mayor carga del trabajo científico,

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