ESTUDIO CON RESOLUCION ATOMICA DE LOS CAMPOS ELECTRICOS LOCALES ALREDEDOR DE DEF...
ESTUDIO CON RESOLUCION ATOMICA DE LOS CAMPOS ELECTRICOS LOCALES ALREDEDOR DE DEFECTOS EN MATERIALES FERROELECTRICOS
ESTE PROYECTO TIENE POR OBJETIVO EL ESTUDIAR EL EFECTO DE LA PRESENCIA DE DEFECTOS SOBRE EL CAMPO ELECTRICO LOCAL CON RESOLUCION ATOMICA EN MATERIALES FERROELECTRICOS MEDIANTE TECNICAS AVANZADAS DE MICROSCOPIA ELECTRONICA CON CORR...
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Fecha límite participación
Sin fecha límite de participación.
Financiación
concedida
El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto
el día 2017-01-01
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Fecha límite de participación
Sin fecha límite de participación.
Descripción del proyecto
ESTE PROYECTO TIENE POR OBJETIVO EL ESTUDIAR EL EFECTO DE LA PRESENCIA DE DEFECTOS SOBRE EL CAMPO ELECTRICO LOCAL CON RESOLUCION ATOMICA EN MATERIALES FERROELECTRICOS MEDIANTE TECNICAS AVANZADAS DE MICROSCOPIA ELECTRONICA CON CORRECCION DE LA ABERRACION ESFERICA, LA APROXIMACION MAS CONVENCIONAL PARA LA CREACION DE DISPOSITIVOS ELECTRONICOS CONSISTE EN CREAR ESTRUCTURAS BASADAS EN LA UNION DE BLOQUES CRISTALINOS PERFECTOS, DONDE LA PRESENCIA DE DEFECTOS ES CONSIDERADA COMO UN IMPEDIMENTO PARA EL RENDIMIENTO OPTIMO DEL SISTEMA, NUESTRA PROPUESTA ES LA OPUESTA, ES DECIR, DESEAMOS PRODUCIR BLOQUES CRISTALINOS E INSERTAR DEFECTOS EN ELLOS PARA VER CUAL ES SU EFECTO EN EL CAMPO ELECTRICO A NIVEL NANOMETRICO, UNA VEZ ENTENDIDO CUAL ES EL EFECTO REAL DE ESTOS DEFECTOS EN LAS PROPIEDADES ELECTROMAGNETICAS PODRAN SER VISTOS NO COMO UN INCONVENIENTE SINO COMO UNA VENTAJA QUE AUMENTE LA FUNCIONALIDAD DE CARA AL EL DISEÑO Y DESARROLLO DE FUTUROS SISTEMAS, EN ESTE CONTEXTO, EL OBJETIVO FUNDAMENTAL DEL PROYECTO CONSISTE EN OBTENER MAPAS DE ALTA RESOLUCION DEL CAMPO ELECTRICO LOCAL EN EL ESPACIO REAL Y CORRELACIONARLO CON LAS PROPIEDADES ESTRUCTURALES Y LA COMPOSICION QUIMICA A ESCALA ATOMICA, DE ESTA FORMA SE PODRA DETERMINAR EL ORIGEN DE DISTINTOS FENOMENOS FISICOS DE GRAN RELEVANCIA, PARA LA CONSECUCION DE ESTOS OBJETIVOS SERA NECESARIO EL DESARROLLO E IMPLEMENTACION DE NUEVAS TECNICAS DE IMAGEN SENSIBLE AL POTENCIAL ELECTROSTATICO Y AL CAMPO ELECTRICO EN EL MICROSCOPIO ELECTRONICO DE ABERRACION CORREGIDA, PRINCIPALMENTE MEDIANTE TECNICAS DE CONTRASTE DE DIFERENCIAS DE FASE (DIFFERENTIAL PHASE CONTRAST - DPC), DEFECTOS\MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA DE ABERRACIÓN CO\DPC\CAMPO ELÉCTRICO\MATERIALES FERROELÉCTRICOS