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DPI2010-21629-C02-01

Financiado

DESARROLLO Y CALIBRACION DE UNA ETAPA PARA NANOPOSICIONADO 2D DE AMPLIO RANGO

ESTE SUBPROYECTO ES PARTE DEL PROYECTO COORDINADO ¿DESARROLLO Y CALIBRACION DE UNA PLATAFORMA DE DOS ETAPAS PARA NANOPOSICIONADO 2D DE AMPLIO RANGO (NANOPLA)¿,EN LOS ULTIMOS AÑOS LA DEMANDA DE MICRO-COMPONENTES CON PRESTACIONES EN... ver más

01/01/2010

UNIZAR

165K€

Presupuesto del proyecto: 165K€

Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DE ZARAGOZA. OFICINA DE TRANSFERE... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Sin perfil tecnológico

Financiación concedida El organismo AGENCIA ESTATAL DE INVESTIGACIÓN notifico la concesión del proyecto el día 2010-01-01 No tenemos la información de la convocatoria

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Líder del proyecto

UNIVERSIDAD DE ZARAGOZA. OFICINA DE TRANSFERE... No se ha especificado una descripción o un objeto social para esta compañía.

Sin perfil tecnológico

Presupuesto del proyecto 165K€

Descripción del proyecto ESTE SUBPROYECTO ES PARTE DEL PROYECTO COORDINADO ¿DESARROLLO Y CALIBRACION DE UNA PLATAFORMA DE DOS ETAPAS PARA NANOPOSICIONADO 2D DE AMPLIO RANGO (NANOPLA)¿,EN LOS ULTIMOS AÑOS LA DEMANDA DE MICRO-COMPONENTES CON PRESTACIONES EN RANGOS SUBMICROMETRICOS Y NANOMETRICOS HA CENTRADO GRAN CANTIDAD DE INVESTIGACIONES INTERNACIONALES, ESTA TENDENCIA HACIA LA MINIATURIZACION EN EL DISEÑO Y LA FABRICACION TRAE CONSIGO LA NECESIDAD DE DESARROLLAR NUEVOS SISTEMAS DE MEDICION Y POSICIONADO QUE SEAN CAPACES DE CUMPLIR CON ESTOS NUEVOS REQUERIMIENTOS DE PRECISION, RESOLUCION, RANGO DE MEDIDA, ETC, PARA CUBRIR DICHAS NECESIDADES SE DISPONE DE DIVERSAS SOLUCIONES (INTERFEROMETRIA, MICROTOPOGRAFIA, MICROSCOPIA, ETC,) QUE PERMITEN ALCANZAR LAS PRECISIONES Y RESOLUCIONES REQUERIDAS, AUNQUE SU RANGO DE MEDICION ES MUY LIMITADO,EN ESTE PROYECTO SE VA A DESARROLLAR UNA ETAPA DE POSICIONADO 2D CON RESOLUCION NANOMETRICA, PRECISION SUBMICROMETRICA Y AMPLIO RANGO, ESTO PERMITIRA AMPLIAR EL RANGO DE MEDIDA 2D DE ESTE TIPO DE INSTRUMENTOS HASTA 50X50 MM CON EL OBJETIVO DE OBTENER 300X300 MM EN EL FUTURO, PARA ELLO SE ESTUDIARAN DIVERSOS PRINCIPIOS DE DISEÑO (MINIMIZANDO EL ERROR DE ABBE, CONSIGUIENDO LA ADECUADA RIGIDEZ, ETC,), ESTRUCTURAS, MATERIALES (DE BAJO COEFICIENTE DE DILATACION), SENSORES (CON RESOLUCION NANOMETRICA), ACCIONAMIENTOS, ETC, QUE PERMITAN CUMPLIR LOS REQUERIMIENTOS, SE ANALIZARA, MINIMIZARA Y CORREGIRA EN LO POSIBLE LA INFLUENCIA DE LA TEMPERATURA,LA ETAPA DE POSICIONADO SE INTEGRARA CON UN MICROSCOPIO DE FUERZAS ATOMICAS (AFM), EL AFM A UTILIZAR ESTA FABRICADO POR UNA EMPRESA ESPAÑOLA Y LA PLATAFORMA A DESARROLLAR LE PERMITIRA INCREMENTAR SU RANGO DE MEDIDA MEDIANTE EL POSICIONADO PRECISO DEL AFM, POR LO TANTO, LA PORTABILIDAD DEL MICROSCOPIO (UNA DE SUS PRINCIPALES CARACTERISTICAS FRENTE A LA COMPETENCIA) SE MANTENDRA Y EL NUMERO DE APLICACIONES SE INCREMENTARA, DESPLAZAR CON PRECISION EL AFM EN 2D EN LUGAR DE LA MUESTRA ES UNA IDEA INNOVADORA,POR ULTIMO, SE DESARROLLARA UN NOVEDOSO PROCEDIMIENTO DE CALIBRACION, SE APLICARAN PROCEDIMIENTOS DE AUTO-CALIBRACION CON ARTEFACTOS NO CALIBRADOS, QUE SON MUY ADECUADOS PARA ESTE TIPO DE SISTEMAS QUE, DADA SU PRECISION, DIFICILMENTE PUEDEN CALIBRARSE CON INSTRUMENTOS O PATRONES MAS PRECISOS,SE TRATA, POR LO TANTO DE UN PROYECTO MULTIDISCIPLINAR DE GRAN ACTUALIDAD INTERNACIONAL Y QUE DARA LUGAR A RESULTADOS DE ALTO IMPACTO CIENTIFICO Y TECNOLOGICO, NANOTECNOLOGIA\POSICIONADOR\PRECISION\METROLOGIA

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