BLANCOS DE ALTA TASA DE REPETICION EN INTERACCIONES LASER ULTRA INTENSAS, PRODUC...
BLANCOS DE ALTA TASA DE REPETICION EN INTERACCIONES LASER ULTRA INTENSAS, PRODUCCION DE PARTICULAS Y APLICACIONES
LA GENERACION DE IONES Y PROTONES ACELERADOS A ALTA ENERGIA ES HOY EN DIA UN TEMA RELEVANTE DEBIDO A LA GRAN CANTIDAD DE APLICACIONES DIRECTAS QUE PUEDE PROPORCIONAR EN LA FISICA FUNDAMENTAL Y APLICADA. ESPECIFICAMENTE, EXISTE UN...
LA GENERACION DE IONES Y PROTONES ACELERADOS A ALTA ENERGIA ES HOY EN DIA UN TEMA RELEVANTE DEBIDO A LA GRAN CANTIDAD DE APLICACIONES DIRECTAS QUE PUEDE PROPORCIONAR EN LA FISICA FUNDAMENTAL Y APLICADA. ESPECIFICAMENTE, EXISTE UN CRECIENTE INTERES EN LAS FUENTES DE RAYOS X Y PARTICULAS PARA LA INVESTIGACION DE LA FISICA DEL PLASMA, LA TRANSFERENCIA DE ENERGIA Y LA CIENCIA DE LOS MATERIALES NECESARIOS PARA LA TECNOLOGIAS AVANZADAS DE ENERGIA (AET), COMO LA FUSION POR CONFINAMIENTO INERCIAL (ICF). RECIENTEMENTE, LAS INVESTIGACIONES CENTRADAS EN ICF HAN PROPORCIONADO RESULTADOS MUY PROMETEDORES HACIA UNA FUENTE FUTURA DE ENERGIA LIMPIA. LA GENERACION DE PROTONES E IONES SE REALIZA TRADICIONALMENTE EN ACELERADORES CONVENCIONALES, DONDE EL COSTE DE LA INSTALACION LIMITA SU ACCESIBILIDAD Y USO PARA LA INVESTIGACION Y DESARROLLO. UNA ALTERNATIVA COMPLEMENTARIA, AUN EN PROGRESO, ES EL USO DE SISTEMAS LASER DE ALTA INTENSIDAD PARA GENERAR LA ACELERACION DE PARTICULAS MEDIANTE LASER.EL USO DE SISTEMAS LASER DE ALTA POTENCIA (TERAVATIOS (TW) Y PETAVATIOS (PW)) HA GANADO NOTORIEDAD PARA HACES DE PARTICULAS DE ALTA ENERGIA EN EL RANGO DE VARIAS DECENAS DE MEV EN UN PROCESO DE ACELERACION BIEN CONOCIDO, TARGET NORMAL SHEATH ACCELERATION (TNSA). ADEMAS, LA NUEVA GENERACION DE ESTAS INSTALACIONES LASER, QUE OPERAN A ALTAS TASAS DE REPETICION (HRR): 1 HZ - 10 HZ, ABRE LA POSIBILIDAD DE NUEVAS APLICACIONES DEBIDO AL AUMENTO EN EL NUMERO DE PARTICULAS GENERADAS Y LA CAPACIDAD DE GENERAR PARTICULAS ENERGETICAS EN PERIODOS DE TIEMPO MUY CORTOS. EL PROYECTO EXTREME LIGHT INFRASTRUCTURE (ELI) REPRESENTA LA VANGUARDIA DE LA INVESTIGACION EN LASERES ULTRA INTENSOS EN LA UE Y ESTARA LISTO PARA OPERAR HASTA 10 PW A 1-10 HZ EN UNOS POCOS AÑOS. ADEMAS DE LOS PROYECTOS DE ELI, EXISTEN OTRAS INSTALACIONES PW-CLASS EN LA UE, ENTRE LAS QUE, EN LA ACTUALIDAD, EL SISTEMA LASER VEGA EN EL CLPU EN ESPAÑA ES UNA DE LAS MAS ACTIVAS CON TIEMPO DE LASER CONCEDIDO MEDIANTE ACCESO COMPETITIVO.LA TECNOLOGIA LASER HA EXPERIMENTADO UN RAPIDO DESARROLLO, ESPECIALMENTE DESDE LA INVENCION DE LA TECNICA CPA (CHIRP PULSE AMPLIFICATION). PERO ESTE RAPIDO PROGRESO, AL MISMO TIEMPO, IMPLICA NUEVOS DESAFIOS, EN PARTICULAR, EN EL DESARROLLO DE BLANCOS. INCLUSO SI LOS LASERES SON CAPACES DE FUNCIONAR A UNA TASA DE REPETICION DETERMINADA, ESTE NO ES EL CASO DE LOS BLANCOS QUE SE UTILIZAN PARA ACELERAR LOS IONES Y LOS HACES DE PROTONES. DE HECHO, EL AVANCE DE LA ACELERACION DE PARTICULAS IMPULSADA POR LASER A ALTA TASA DE REPETICION ESTA LIMITADO DEBIDO AL USO DE BLANCOS SOLIDOS (TRADICIONALMENTE, LA ACELERACION DE PROTONES SE LOGRA CON BLANCOS SOLIDOS DE ESPESORES MICROMETRICOS) Y SU DIFICULTAD DE REEMPLAZO TRAS LA INTERACCION. ESTO LIMITA LA REALIZACION DE ESTUDIOS SISTEMATICOS (TALES COMO LA ACUMULACION DE ESTADISTICA) PARA OPTIMIZAR NUEVOS PROCESOS DE ACELERACION Y COMPRENDER LA FISICA SUBYACENTE.TENIENDO EN CUENTA LAS LIMITACIONES MENCIONADAS ANTERIORMENTE, EL OBJETIVO PRINCIPAL DE ESTA PROPUESTA ES HACER OPERATIVA Y EFECTIVA LA ACELERACION DE PARTICULAS MEDIANTE INTERACCION LASER PLASMA A ALTA TASA DE REPETICION, DESARROLLANDO, PROBANDO Y COMPARANDO DIFERENTES ESQUEMAS DE BLANCOS A ALTA TASA DE REPETICION PARA LA ACELERACION DE PARTICULAS IMPULSADA POR LASER Y SUS POSTERIORES NUEVAS LINEAS DE INVESTIGACION Y APLICACIONES EN CIENCIA FISICA Y CIENCIA DE LOS MATERIALES, Y ESPECIFICAMENTE PARA APOYAR LAS POTENCIALES INVESTIGACIONES QUE CONDUCIRAN A LA FUSION POR CONFINAMIENTO INER LANCOS DE GAS\ACCELERACION DE PARTICULAS\LASER DE ALTA INTENSIDAD\ALTA TASA DE REPETICION\INTERACCION LASER PLASMAver más
15-11-2024:
PERTE CHIP IPCEI ME/...
Se ha cerrado la línea de ayuda pública: Ayudas para el impulso de la cadena de valor de la microelectrónica y de los semiconductores (ICV/ME)
15-11-2024:
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En las últimas 48 horas el Organismo REDES ha otorgado 1579 concesiones
15-11-2024:
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